介质阻挡放电等离子体辅助高能球磨的分析-材料加工工程专业论文.docx

摘要摘 摘要 摘 要 高能球磨是指利用机械能的作用，在固态下对粉体进行细化加工，并实现原 子扩散、固态反应或相变等过程，从而制备超细粉体、合金或化合物的一种材料 制各方法。但是传统的高能球磨工艺往往需要较长的时间，由此带来的粉体污染 不容忽视，并且高能球磨制粉量少，通常都局限于实验室使用，因此严重制约了 该技术在工业中的应用及发展。 把其它物理能场，如超声波、磁场、电场或温度场引入到高能球磨过程中， 使球磨的机械能与外加物理场的能量有机结合起来，共同作用到被处理的粉末 上，从而实现多外场对粉末的协同作用，高效激活反应过程，被证明是加速粉末 组织细化、促进合金化和固态反应进程，提高球磨效率的一个可行途径。 等离子体是一种特殊的物质与能量形态，其内蓄的高能状态及带来的诸多独 特效应，使之在材料加工领域得到广泛应用。其中介质阻挡放电等离子体 (dielectric barrierdischarge plasma，简称为DBDP)作为一种非平衡等离子体， 具有电子浓度大、电子平均能量高的优点，更为重要的是介质阻挡放电能够在常 压气氛中发生，并且能够抑制火花放电或弧光放电的发生，因此采用DBDP辅助 高能球磨成为一种可能。 以此为理论基础，本文设计并制作了一台气氛可控的DBDP辅助球磨的高能 振动球磨机，装置中DBDP发生器采用同轴式结构，以聚四氟乙烯为DBDP介质层 材料，电源额定电压在1．30kV之间、频率在1．20kHz之间同步可调。当放电气隙一 定时，随着电压升高，放电频率同步增加，DBD在介质层均匀铺开，从丝状放电 过渡到准辉光放电。当球磨气氛为0．1MPa氩气时，额定放电电压_22kV(频率 13kHz)，球磨罐内能保持准辉光放电状态。通过发射光谱诊断，氩气的DBDP发 射光谱由氩原子多个能级之间跃迁的谱线构成，氩原子的谱线在700．900nm之间。 本研究利用DBDP辅助球磨装置分别对介电常数不同的陶瓷粉末 (Ti02、 ZnO)与热学性能不同的纯金属粉末(AI、Fe、W)进行了粉体细化的测试。 利用该装置对W．C混合粉末进行了活化并合成纳米WC的研究。为了进行对比， 本研究也采用普通球磨方式对这些粉体进行球磨实验。我们运用扫描电镜、x射 线衍射、BET比表面积、透射电镜及热重分析等实验方法研究了不同球磨方法制 备的粉体，结果发现DBDP辅助球磨的细化效率和激活效率远远高于传统的普通 华南理1二大学博士学位论文球磨，这主要是因为DBDP在球磨过程中两个显著的协同效应，即等离子体热效 华南理1二大学博士学位论文 球磨，这主要是因为DBDP在球磨过程中两个显著的协同效应，即等离子体热效 应和高能电子冲击效应。 在利用DBDP辅助球磨介电材料时，较低的外加放电电压(22kV)DBDP 辅助球磨更有利于高介电常数材料(例如Ti02)粉体细化；但对于低介电常 数材料(例如ZnO)，则是较高的外加放电电压(25kV)DBDP辅助球磨更 有利于粉体细化。这是因为高介电常数材料的荷电能力更强，对等离子体的温度 效应更为敏感，当激励电压较高时，高介电常数粉体荷电蓄能更多，导致粉体过 热甚至熔化，反而不利于细化进程；而低介电常数材料对等离子体的冲击效应更 为敏感，当激励电压较高时，高能电子更大的冲击作用为主，因此能更有效地协 助粉体细化。辅助球磨7h后，22kVDBDP辅助球磨的Ti02粉末Er达到50．4914 m2／g，幽Er为28nm，平均晶粒尺寸为15nm；25kVDBDP辅助球磨的ZnO粉末 岛Er达到27．9399m2／g，dBEr为38nm，平均晶粒尺寸为12nm； 在普通球磨细化纯金属时，金属的晶体结构是影响细化难易的重要因素之 一。相对而言，面心立方金属由于塑性较好，球磨细化比体心立方金属更难。但 是用DBDP辅助球磨进行纯金属 (AI、Fe、w)粉体的细化时，我们发现金属 材料的热学性能是另一个重要影响因素。采用24kV DBDP辅助球磨15h，得到平 均粒径为128．7nm的铝粉；辅助球磨10h，得到平均粒径103．9nm的铁粉；辅助球 磨3h，得到平均粒径101．9nm的钨粉。这种高效率归因于辅助球磨时的DBDP对 金属粉体产生的“热爆”效应，而影响DBDP“热爆”效应的是金属材料的热学性能。 金属的熔点和沸点越高，导热系数、比热、熔解热、气化热越大，越难诱发“热 爆”，这也将直接影响DBDP辅助球磨金属粉末中10rim以下粉体的含量，因为粒 径10rim以下的粉体主要是通过“热爆”飞溅冷却形成。如钨的熔点极高，DBDP产 生“热爆”效应得到的10nm以下钨纳米粒子含量只有lO．5％。铝虽然导热系数比铁 大，但由于其熔点太低，DBDP产生“热爆”效应得到的10nm以下铝纳米粒子含量 为27t3％，略微大于铁粉中10nm