硅微通道阵列红外发射特性研究-物理电子学专业论文.docxVIP

本学位论文作者及指导教师先全了解“长存理工大学颈．L、博士学位论立 本学位论文作者及指导教师先全了解“长存理工大学颈．L、博士学位论立 版权使用规定”，同意长春理丁大学保留并向中闻科学信息研究所、叶】幽优秀 博硕士学位论文全文数据库和CNKI系列数据库驶其它国家有芙部门或机构送 交学位论文的复印件和电子版．允许论文被查阅和借阅。本人授权长春理工大 学可以将本学位论文的会部或部分内容编入有关数据库进行检索．也可采用影 印、缩印或扫描等复制手段保存和汇编学位论文。 —堡fL年．—1月卫I 1 —赳L年土门卫¨ 摘 摘 要 目前，市面t可以买到几种微型热辐射源．但由于它们的发射率小而无法和理想 的黑体热辐射源相比。增大表面的粗糙程度会得到较高的发射率，这为研制一种新型 的微红外辐射源提供了一个途径。 本文设计丁 种新型的硅微通道阡州鲇丰句红外光源的岔1】．和以往MEMS}1．外光源 不I，日的是引入一维规则的孔阵列．这种特蛛的结杜J使窗I I的的发射牢增人。以n(100) 硅为衬底．通过光电化学腐蚀的方法制备心种小『刊扎径的红外发射窗口，利用封外分 光光度计测量发射窗口的反射光谱，研究发现该结构在中红外波段反射率减弱。同时 对发射窗口的辐射特性进行分析．结果表明该结构在中红外波段有良好的吸收性。表 现出啶的类黑体特性。 关键宇：MEMS红外窗口 反射率表面粗糙度光电化学腐蚀fL阵列类黑体 ABSTRACTAt ABSTRACT At present．there are several micro sized thermal eminers commercially available， because of their little emissivity compared wi山all ideal black body radiator the emirted radiation is moderate By increasing the surface roughness a hi曲ef emissivity will gd，this is a way to develop a new type ofmiero infrared radiation source This paper designs a new type of silicon micro channel infrared light emission array structure window，the main difference compared with common thermal micro emitters is the USe of 2D structured hulk silicon，the special structure of MEMS infrared window increase the emissivity The struclttre is obtained on the n f100)silicon substrate，through the photoelectric chemicaI corrosion method to etch four different macro porous silicon arrays Using double beam infrared spectrophotometer to measure reflective spectra of the IR window the study founds that in mid-infrared band the reflection abates The radiation characteristic of IR window is analyzed．and the results show that in the Infrared wave band the structure has good absorbency and shows a black-body—like emission profile Ke)words：MEMS infrared window refleeti、e surface roughness electrochemical corrosion macro porous silicon array black-body·like 第州尊n#微通道M刮机构引外窗I 第州尊n#微通道M刮机构引外窗I I们辅射特忡州究 30 4】硅材料的红外特性． 30 4 2硅微通道阵列结构红外源窗口的反射率分析． 3l 4 3硅微通道阵列结构红外源窗口的辐射通量计算 34 结论 38 致 谢 39 参考文献 40 第一章