硅微通道阵列结构的化学机械抛光及清洗技术研究-物理电子学专业论文.docxVIP

摘 摘 要 微通道结构是具有多孔结构的半导体器件，很多领域都有着广泛的应用，如微通 道板，微全分析系统，微型熟传导器件以及微型化工设备等。然而硅微通道在增益提 高、图像分辨率改善方面比传统的玻璃纤维微通道板更有优越性。随之而发展起来的 电化学腐蚀技术具有高深宽比和成本低廉的优点，在硅微通道的制各过程中被广泛使 用。 因此，在硅微通道电化学腐蚀后的乎坦化处理及清扰工艺也蓬勃发展起来，本文 详细分析了抛光液pH值、压力、抛光液注入流量及工作台转速等因素对硅微通道板平 整度的影响；此外针对抛光后引入杂质的去除做了实验尝试，并详细分析了温度、超 声清洗机频率、清洗时间对硅微通道清洁度的影响。 通过分析上述影响．明确了获得洁净平整的硅微通道板的重要参数，本文在广泛 调研相关文献的基础上对影响硅微通道化学机械抛光清洗技术的因素进行了深入的分 析。 关键字： 硅微通道 电化学腐蚀化学机械抛光化学清洗超声清洗 ABSTRACTMicro-charmel ABSTRACT Micro-charmel plate is a semiconductor device with porous smacture．and“has a wide range ofapplication such asmicro—charmel，micrototal analysis systems，micro heattransfer devices and micro-chemicui equipment However，silicon micro—channel has better impmvement of gain and image resolution than tranditinnal glass fiber micro-channel plate．With the development，alectroehemical etching what has the advantages ofhigh aspect ratio and low cost has been widely uesd in process of silicon micro-channels plate So．the processing and cleaning of the flat technology has flourished after the electrochemical etching of silicon micro-channel This paper analyse the PH of slurry．， pressure，the flux of slurry and the speed of table spin bring the effects to silicon micro·channel plate flamess；in addition，we have studied on remove the inⅡoducfive impurities afterthe polishing，andmake a detailed analysis ofthetemperature，thefrequency ofultrasonic cleaningmachine，cleaningtime，cleanlinessforthe siliconmicro—channel By analyzing the impact．make sure clean flat silicon micro—channel plate ofthe important parameters This paper analysis the influence ofthe effects in micro—channel plate chemical mechanical polishing cleaning technology after the study of related articles Kev words：Smean mioeehamad ImrasoaieckaⅡiⅡg 目 目 录 摘 要 ABSTRACT 目 录 第一章绪论 1 1硅微通道加工技术的发展和国内外现状 ． l_2硅微通道阵列结构的研究现状及应用．．．．．．．．．．．． ●●0 1 3本论文的主要研究内容．． 第二章硅微通道结构释放及整形工艺理论．． 2．1硅微通道阵列结构形成的基本原理．． 0：o 2 2硅微通道阵列结构的制备工艺．．．．．． 2．3硅微通道阵列结构的背部减薄．．．．．．．．．．． 第三章化学机械抛光技术对硅微通道表面平整度影响的研究 3 1化学机械抛光机理分析．．．．．．