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华中科技 大学硕士 学
华
中
科
技 大
学
硕
士 学
位
论
文
I
I
摘 要
自 2004 年石墨烯被成功分离之后,一系列其它二维晶体材料神秘的面纱被慢慢 地揭开,其中六方氮化硼(h-BN)是一种晶格结构、物理性质和石墨烯既相似又互补的 二维层状晶体材料。如今已有很多科学家通过探索制备出石墨烯—氮化硼异质结等材 料结构来研究其在微电子器件上的应用前景。本文主要通过 h-BN 表面纳米沟槽的刻 蚀和气泡制备来研究六方氮化硼表面微纳结构的制备与表征。
在 h-BN 表面刻蚀部分,研究了六方氮化硼表面纳米槽的刻蚀工艺及影响因素。 首先,通过采用纳米颗粒作为刻蚀催化剂,在 h-BN 表面获得各向异性良好的直线型 h-BN 表面纳米沟槽,并将其设定为标准常规工艺,在此基础上分别在还原性刻蚀气 氛和氧化性刻蚀氛围下,实现 h-BN 表面纳米沟槽的长度、深度、宽度和密度的可控 刻蚀。探索了六方氮化硼表面纳米沟槽刻蚀的各种影响因素,研究了 h-BN 表面线刻 蚀各向异性随气体压强以及刻蚀气氛浓度的改变所产生的相应变化规律。
在气泡研究部分,利用化学气相沉积的管式炉在等离子体射频电源的辅助下实现 了在 h-BN 表面制备微纳气泡结构的设想,并找到了影响气泡大小的实验参数以及变 化规律。最后,借助可变温控制的样品台、光学显微镜、原子力显微镜以及拉曼光谱 仪对六方氮化硼表面的微纳气泡结构随温度变化的图像以及晶格振动的频率进行表 征,研究 h-BN 表面气泡随温度变化的规律。
关键词:六方氮化硼 石墨烯 刻蚀 微纳表面结构 二维材料 表面气泡
II
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Abstract
Since graphene was isolated successfully in 2004, many other 2-dimensional (2D) materials have come to the research community all over the world. Hexagonal boron nitride (h-BN) is one among them. Hexagonal boron nitride has an atomic structure similar to graphene, and the most insulating in conductivity among all these 2D materials. Many researchers have tried to fabricate the graphene-BN hetero-structure for the electronics application. In this work, we focus on the hexagonal boron nitride. We carried out researches in fabrication of nanostructure on h-BN surfaces in two aspects. One is to etch nanostructure on h-BN surfaces, and the other is to fabricate the h-BN blisters in micrometer scale.
When etching part, we explored the etching process, and optimized the detailed techniques and experimental parameters. Firstly, we successfully obtained the anisotropic trenches in line-shap
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