离子辅助沉积对薄膜特性的影响-光学工程专业论文.docxVIP

硕士生毕业论文摘 硕士生毕业论文 摘 要 本论文的主要工作是对常规工艺下和离子辅助条件下沉积的薄膜的特性进 行比较研究，研究的薄膜包括单层膜和多层膜。 1．单层膜的研究 研究的单层膜为Ti02、Ta／05、Nb205等氧化物介质薄膜，对比研究了常规 工艺下和离子辅助条件下它们的光学特性和机械特性。光学特性涉及折劓率、消 光系数、波长漂移、聚集密度和表面粗糙度，机械特性涉及硬度和附着力。通过 研究，发现离子辅助沉积对单层薄膜的光学特性和机械特性均有明显改善。lAD 使Nb205薄膜的聚集密度提高了14％，折射率从常规工艺的2．03提高到2．18， 膜层的附着力和牢固度从常规工艺的1．0×107N／m2提高到129．7×107N／m2；同样， Ta205薄膜的聚集密度提高了13％，折射率从常规工艺的2．03提高到2．23；TiO， 薄膜的聚集密度提高了20％，折射率从常规工艺的2．03提高到2．37。 2．多层膜的研究 采用霍尔源离子辅助沉积(IAD)技术制各了ZnS／MgF2、Nb205／Si02、 TiQ／SiOz多层膜窄带干涉滤光片，并与常规沉积条件下制各的样品做了比较。 发现离子辅助明显地地减小了滤光片的光谱漂移(△^)：ZnS／MgF2多层膜窄带 干涉滤光片实测漂移A^o．5rim，光谱稳定性得到很大提高。计算了滤光片中 MgF2膜层的聚集密度，离子辅助使MgF2的聚集密度从