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- 2019-07-16 发布于四川
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* * 微影照像用材料 圖2.1 (a)正光阻,和(b)負光阻成像的比較 圖2.2 光阻覆蓋製程 圖2.3 (a)正光阻,(b)負光阻的特性比較 (續)圖2.3 (a)正光阻,(b)負光阻的特性比較 圖2.4 電漿預處理 圖2.5 影像反轉製程和(a)以深紫外光照像,(b)曝光後,(c)矽離子植入,(d)氧離子植入,(e)最後是光罩中透明的部份被保留了。 圖2.6 駐波現象 圖2.7 (a)繞射現象和(b)降低繞射的比較 圖2.8 一個光罩的例子 圖2.9 光罩護膜 圖2.10 接觸式曝光系統 圖2.11 步進照像系統 圖2.12 在晶圓上步進曝光 圖2.13 霧狀晶圓的對準原理
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