毕业答辩-金属-介质复合结构的色散特性研究.pptVIP

合肥工业大学电子科学与应用物理学院 School of Electronic Science Applied Physics, Hefei University of Technology 金属—介质复合结构的色散特性研究 答辩人： 专业：应用物理 学号： 指导老师： 框架 研究的背景和意义 本文主旨 理论基础 ——表面等离子体 ——光在多层薄膜内的传播特性 ——光学传递函数的推导 实验过程 ——多层交替金属-电介质薄膜结构与成像示意图 ——平面超透镜的成像过程分析 小结 谢辞 研究的背景和意义 一直以来，衍射极限的存在对传统透镜的分辨率都起到一定的限制作用，现今人们已经不再满足传统透镜的成像质量，关于超越衍射极限的研究越来越受到广大学者们的关注。 前苏联的物理学家V.G.Veselago于1968年提出负折射材料的概念，即介电常数和磁导率都为负值的材料，成功引起了英国物理学家J.B.Pendry的兴趣。Pendry在此基础上于2000年提出“完美透镜”的概念，即具有负折射率的金属薄膜可以完美成像，使得这种被埋没了30多年的负折射材料重现科学界。后来人们还发现即使磁导率不为负值金属膜也能增强倏逝波，就此拉开了利用非磁性金属来实现超分辨成像的序幕。 经过人们的不断努力，已经先后从理论和实验上提出和验证了平面的superlens和曲面的hyperlens可以实现近场和远场超分辨成像。超分辨技术的迅速发展对现代纳米加工工艺、光刻技术和生物探测技术等起着重要的推动作用。 J.B.Pendry,英国物理学家，出生于1943年7月4日，毕业于剑桥大学，闻名于世的著作有“完美透镜”理论、超材料、隐形斗篷等，获得的奖项有英国皇家学会院士、狄拉克奖、艾萨克·牛顿奖章等 本文主旨 本论文的主要内容是利用导波光学的传递矩阵的方法推导金属—电介质复合结构的等效介质理论和色散方程，具体分析、计算和讨论了在不同波长的条件下 多层膜的色散特性，还有金属银层厚对传播函数的影响。为利用该结构实现光学超分辨成像、纳米光刻等应用提供重要理论参考。 理论基础 表面等离子体 光在多层薄膜内的传播特性 光学传递函数的推导 表面等离子体 多层金属-电介质薄膜交替结构之所以具有超衍射特性，是因为金属和电介质的交替处存在着一种表面等离子体激元，它能与物体激发的高频信息也就是倏逝波耦合，从而能在多层膜中传递到远场，通过传统的光学系统分辨。因为在传输过程中高频信息并没有完全损耗掉，所以能达到超越衍射极限的分辨率。 光在多层薄膜内的传播特性 右边是多层金属-电介质复合结构的透射系数曲线图。图中蓝色线、绿色线、红色线分别代表多层膜等效介质的介电常数均为正值、异号和均为负值时的透射系数曲线。 从图中我们可以看出当kx大于k0时，蓝色线呈指数下降，绿色线下降的速度缓和许多，而红色线有着一系列近似周期性的波峰，其幅度在逐渐减小。这说明只要选择合适的金属与电介质材料组成多层膜结构，就能使倏逝波也具有很好的传播能力，从而实现超分辨成像。 对于多层薄膜系统而言，薄膜前后之间的电磁场关系由总的传输矩阵M表示，而总的传输矩阵等于每层薄膜的特征矩阵的乘积。这里我们利用传递矩阵的方法来推导光学传递函数。 单层膜的特征矩阵为： 设mj表示第j层薄膜的特征矩阵，则 光学传递函数的推导 从第一层膜开始一直递推到最后一层膜（第k层膜）可以得到： 所以总的膜系透射系数为： 实验过程 多层交替金属-电介质薄膜结构与成像示意图 平面超透镜的成像过程分析 多层交替金属-电介质薄膜结构与成像示意图 上图中左边的是多层膜的结构示意图，右边为成像示意图。这种互相交替的多层金属和电介质薄膜周期性结构，通过金属和电介质的介电常数匹配，既可以增强倏逝波成分，有能减弱金属内部由于欧姆热损失造成的吸收效应，从而实现超分辨成像。 平面超透镜的成像过程分析 这三幅图是波长为365nm的光分别入射到金属银层厚为20nm、25nm和30nm时的传波函数曲线图。 从这三幅图中我们发现，此时能传播的波不仅有传播波，还有高频分量即倏逝波。随着金属银的层厚逐步增加，不管是传播波还是倏逝波的透射系数都明显减小，高频分量还伴随着大幅度向左边方向移动的现象。 由此可知，在电介质的层厚给定时，金属银的层厚会影响透过率函数的峰值和峰值所对应的高频分量。随着层厚的增加，不管是传播波还是倏逝波都能明显的被抑制通过，传递函数曲线带宽也明显变窄，这将不利于高频滤波。 上面的两幅图分别是365nm的波入射该结构单缝和双缝时的超衍射成像图。光在多层介质内的传播几乎垂直于介质表面直线射出，这说明该结构能实现近场超分辨成像。 该图为3