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无锡市芯丰半导体有限公司
人工检查版图清单
项目名称
检 查 人
检查结论
项目组长
检查日期
检查项目
结果
项 目 清 单
原 因
1 、压焊点的检查
□压焊点的分布满足封装要求
□钝化孔的位置与对应管脚顺序是正确的
□钝化孔大于85μm×85μm
□钝化孔的中心间距大于135μm
□输入电阻条宽大于10μm
□压点下面有阱
□压点下面有多晶
□压点下面的多晶与AL之间有接触孔
□压点下面的多晶与AL之间接触孔小于5μm×5μm
□压点根部引出线宽度≥25μ
□压点根部引出线与多晶或扩散区连接时,接触孔面积和≥30μ2
□压点与有效图形之间的间距大于15μm
2、ESD保护的检查
□保护电路有保护二极管
□保护二极管面积≥600μ2,且尽可能大(在频率许可时)
□保护二极管采用多孔接触
□保护二极管的同类接触孔到PN结的距离一致
□保护电路有MOS保护管
□保护电路有场开启保护管
□MOS输出管的漏区面积≥600μ2,且尽可能大(在频率许可时)
□采用双环保护,保护环直接与A1接触,并有足够接触孔
□用于保护的MOS管漏加有阱
□MOS输出管、MOS保护管的同类接触孔到栅的距离一致
□MOS保护管N管栅接地;P管栅接电源
□MOS保护管的宽长比大于150/1
检查说明:在完成DRC、ERC和LVS后,进行上述人工检查。如果小项检查结果是合题意的,请在小方框内打上“√”,不合题意的,请在小方框内打上“×”,并在条款后注明原因或结果,与芯片无关的,请在小方框内画“/”。大项检查结果则分别用“√”、“×”、“/” 表示合格、不合格、无关。
检查项目
结果
项 目 清 单
原 因
3、电容的检查
电路选用的电容结构:□P型电容;□N型电容;□MOS电容;□多晶1与多晶2电容;□其他
□P型电容或N型电容的下极版(有源区)有正确的注入层
□P型电容或N型电容的二个电极(多晶区和扩散区)连接正确
□若电容有一电极直接接电源时,极性连接正确
□若电容有一电极直接接地时,极性连接正确
4、电阻检查
□电阻选用N+电阻,并在P型衬底上或P阱中
□电阻选用P+电阻,并在N型衬底上或N阱中
□电阻选用多晶电阻
□电阻选用阱电阻,阱电阻通过有源区同A1连接
□电阻选用阱电阻,P阱电阻用P型有源区连接,N阱电阻用N型有源区连接
□电阻不是夹层电阻,阱电阻上无扩散区
□已考虑了场注入对阱电阻的影响
5、抗光照检查
□阱电阻上加有铝复盖
□在模拟电路栅极上加有铝复盖
□在漏电流敏感的结区加有铝复盖
6、抗噪音检查
□数字电路与模拟电路中间有间隔
□模拟电路之间有间隔
□有驱动要求的信号线已加宽
□在输入端口增加了延迟或去抖动电路
□已调整了晶体管的W/L,使噪音容限提高
□把大电流缓冲级的电源线单独分开
□高频信号线由Vss或Vdd与其他信号线隔开
□驱动电感与电容的输出级的电源线和输出线远离其他信号线
□驱动电感与电容的输出级的电源线和输出线不与其他信号线交叉
□驱动电感与电容的输出级的电源线和输出线与其他信号线之间已用Vss或Vdd隔开
检查项目
结果
项 目 清 单
原 因
7、检查电源线与地线(VSS)
□数字部分与模拟部分用的电源线和地线分开压焊
□电源线及地线没有被隔断,没有用其他层连接
□电源线及地线未隔断,并采用其他层连接时,接触孔已足够多
□电源线为鱼脊骨形状分布
□多电源时(例如Vcc、VEE、VGG等),Vcc和VSS优先通过交叉
□电源线和地线宽度尽可能宽,宽度至少大于2倍信号线宽度(含间距)
□电源线与地线宽度由通过电流大小来决定,一般为5-8μ宽,大电流处已加宽
□宽的电源线和地线的铝条上开有隙缝
8、检查阱和衬底偏置
□在版图的每个单元中都有阱偏置和衬底偏置
□在640μm2面积内必须有衬底或阱偏置
9、走线过“地道”的检查
A 铝栅工艺(P阱)
□与电源连接的“通道”是N+,而不是P+
□与电源连接的N+“通道”电阻尽可能小
B 硅栅工艺
□阱内仅使用多晶作“通道”
□阱外仅使用多晶作“通道”
□没有采用有源区通道
□输出管和压点间的“通道”电阻尽可能小
10、耗尽注入检查
□作逻辑电路用的耗尽管,已由LVS检查过
□作连线用的耗尽管的电阻值要尽可能小
□除电容区和耗尽区有注入外,没有出现其他不需要的注入区
11、正向PN结检查
□全部用作“地道”接线的扩散区,已避免正向PN结偏置
□M
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