椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率.docxVIP

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  • 2019-11-06 发布于广东
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椭偏光法测量薄膜的厚度和折射率 引言: 椭圆偏振测赧(椭偏术)是研究两媒质界而或薄膜屮发生的现象及其特性的一种光学方法, 其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时岀现的偏振变换。椭圆偏振测量的 应用范围很广,如半导体、光学掩膜、圆品、金属、介电薄膜、玻璃(或镀膜)、激光反射镜、 大面积光学膜、冇机薄膜等,也口J用于介电、非晶半导体、聚合物薄膜、用于薄膜生长过程 的实时监测等测量。结合计算机后,具有对手动改变入射角度、实时测量、快速数据获取等 优点。 实验目的: 1?了解椭偏光法测量原理和实验方法。 熟悉椭偏仪辭的结构和调试方法。 测量介质薄膜样品的厚度和折射率。 实验原理: 在一光学材料上镀各向同性的单层介质膜后,光线的反射和折射在一般情况下会同吋存 在的。通常,设介质层为nl、n2、n3, 1)1为入射角,那么在1、2介质交界面和2^ 3介质 交界面会产生反射光和折射光的多光束干涉,如图(M) 图(1?1) 这里我们用2 6表示相邻两分波的相位差,其屮5 =2 n dnlcos 4)2/ X ,用Np、rls表示光 线的p分量、s分量在界而1、2间的反射系数,用r2p、r2s表示光线的p分、s分量在界 面2、3间的反射系数。由多光束干涉的复振幅计算可知: E』 「1 + 22 严 ? ⑴ 罠= .i + y e 「1 + q占… ⑵ 其屮Eip和Eis分别代表入射光波电

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