辉光放电光源的增强方式.docVIP

辉光放电光源的增强方式 钢铁研究总院国家钢铁材料测试中心 余 兴 辉光放电 辉光放电（GD）属于低压下气体放电现象，历史上就作为一种有效的原子化和离子化光源用于分析。 1967年，Grimm设计了应用于光谱分析的新光源（称为Grimm型）并应用于金属样品的成分分析。1978年出现了第一台商品化的辉光放电光谱仪(GDOES)。现在辉光放电光谱技术发展成为一种快速、定量的成分和表面分析技术。 二十世纪八十年代VG公司推出VG 9000型辉光放电质谱仪。由于GDMS具有优越的检测限和宽动态线性范围的优点，在电子学、化学、冶金、地质以及材料科学等领域里得到广泛应用，尤其在高纯金属和半导体材料分析中。 辉光放电 辉光放电光源的用途 GDL可作为光源和离子源用于OES、MS、AFS和AAS中 辉光放电光谱仪的结构示意图 辉光放电质谱仪的结构示意图 辉光放电过程 低气压直流辉光放电的特性 辉光放电的区域、光强和电位 Grimm型辉光放电区域 Grimm型辉光光源溅射的斑点 辉光光源激发的凹坑 商品化GDOES的辉光光源 Grimm型辉光光源结构 阳极的空心圆筒伸入环形的阴极中，使阳极筒端面和试样之间的间距以及阳极筒外径与环形阴极内径之间的距离为0.2 mm左右。 能有效地限制放电面积，使放电处于异常辉光放电区，大大增强了阴极溅射作用，使放电物质被刻蚀进入放电区，并使之在负辉内被激发。 试样仅仅通过阴极溅射蒸发，蒸发干扰可以忽略。由于试样在负辉区域的蒸发和激发是分开的，元素间的影响较低。 Grimm型辉光光源优缺点 主要的增强方式 射频辉光光源 直流辉光放电不能用于非导体的直接分析，为了实现辉光放电，可以在非导体的样品阴极前面放置了导电的第二阴极，如钽片 使用孔径较小的钽片置于分析样品的前面，可以将周围的等离子体挡住，只使用中心较均匀的等离子体对样品进行均匀地溅射，从而得到较为平坦的溅射底坑，使辉光深度分析的分辨率得到改善。 当Ar中加入4 %的He气体时，电离效率会增加25倍。 在rf-GD-OES中采用He-Ar混合气体时分析发射强度可提高300 %。 小结