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可靠性设计
天线效应
闩锁效应
静电放电保护(Electro-Static Discharge ,ESD )
数模混合集成电路版图设计
1
天线效应
天线效应:当一个小尺寸的MOS管的栅极和具有很大面积(很长走线)
的金属相连时,这片金属就会像“天线”收集电离子,使其电位升高。
在制造工艺中,这个MOS管的栅电压可能增大到击穿栅氧化层。并且
这个击穿是不可恢复的。
避免措施:
减小连接栅的金属面积;
采用上层金属过渡。
5
闩锁效应(latch up )
Y
X
寄生的纵向三极管Q1和Q2连接形成一个正反馈环路。
如果有电流注入X点使得V 上升,则I 增大,V 下降,I 增大,导致V 进一
X C1 Y C2 X
步增大。
如果环路增益大于或等于1,这种现象持续使得两个晶体管导通,从电源上抽
取很大电流流到地上,破坏晶体管的正常工作状态,称为闩锁效应。
6
闩锁效应产生的原因
Latch up最易产生在易受外部干扰的I/O 电路处,也偶尔发生在内部电路。
随着IC制造工艺的发展,封装密度和集成度越来越高,产生Latch up 的可
能性会越来越大。
Latch up产生的过度电流量可能会使芯片产生永久性的破坏,Latch up 的
防范是IC Layout 的最重要措施之一。
Latch up 的主要原因:
电源、地线的瞬态过冲;
输入、输出节点的过冲;
源、漏结的雪崩击穿;
寄生场区器件击穿;
光电流;
位移电流。
7
闩锁效应触发条件和防止方法
触发条件:
NPN或PNP 中的任何一个发射极因外来干扰信号而
正偏;
两个寄生晶体管的环路电流增益大于1;
在发射极能够形成一个比晶闸管器件维持电流大的
电路。
防止方法:
载流子保护环,减小衬底和阱区电阻,避免晶体管
正偏;
紧邻源极接触,提高晶闸管的维持电流;
减小横向寄生晶体管的电流增益;
适当增加接触孔,加宽电源线和地线,减小压降。
8
静电放电(ESD )保护
ESD即静电放电效应,是芯片制造和使用过程
中最易造成芯片损坏的因素之一。
具体表现为,外部环境或芯片内部积累的大量静
电电荷瞬间通过引脚进入或流出芯片内部,瞬态
大电流达到数安培以上,足以造成PN结击穿、
金属熔断、栅氧化层击穿等不可恢复性损伤。
产生主要有三个途径:
1、人体接触:带静电的人手触摸芯片
人体模型(HBM)、
2、机器接触:制造过程中,与机器接触
机器模型(MM)、
3、自产生电荷:已封装芯片在组合或运输过程 带电器件模型(CDM)
中产生电荷
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