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第九章 透射电子显微分析;显微镜的发展;;;电子显微分析方法的种类;TEM可以以不同的形式出现，如：
高分辨电镜（HRTEM）
扫描透射电镜（STEM）
分析型电镜（AEM）等等
入射电子束（照明束）也有两种主要形式：
平行束：透射电镜成像及衍射
会聚束：扫描透射电镜成像、微分析及微衍射;第一节 透射电子显微镜工作原理及构造 ;;二、构造 ;（1）电磁透镜的结构 ;（2）电磁透镜的光学性质 ;;（3）电磁透镜的分辨本领 ;2. 照明系统 ;电子枪;;;3. 成像系统 ;;;;三、各种结构的衍射花样;2）多晶材料的电子衍射;3）非晶态物质衍射;对材料的微区进行观察，获取更为细致的结构信息;如何实现选区？;衍射花样标定;多晶电子衍射花样的标定;多晶电子衍射花样的标定;表6-1 立方晶系衍射晶面及其干涉指数平方和(m);金多晶电子衍射花样标定[数据处理]过程与结果;（1）利用已知晶体（点阵常数a已知）多晶衍射花样指数化可标定相机常数。
衍射花样指数化后，按 计算衍射环相应晶面间距离，并由Rd=C即可求得C值。
（2）已知相机常数C，则按d＝C／R，由各衍射环之R，可求出各相应晶面的d值。
;单晶电子衍射花样的标定;复杂电子衍射花样简介;（1）高阶劳埃区电子衍射谱 ;（2）菊池花样(Kikuchi Pattern) ;第二节 样品制备 ;;;;;;;;;;二、直接样品的制备 ;;;2. 块状样品的制备;;;第三节 透射电镜基本成像操作及像衬度 ;;a) 明场像;二、像衬度 ;;质厚衬度的公式;衍射衬度成像光路图;相位衬度(Phase contrast)：
试样内部各点对入射电子作用不同，导致它们在试样出口表面上相位不一，经放大让它们重新组合，使相位差转换成强度差而形成的。;第四节 TEM的典型应用及其它功能简介;高岭石;刃位错;（a）明场像，s?0；（b）明场像，s略大于零；
（c）g/3g弱束暗场像;晶粒（1）与周围4个晶粒（2、3、4、5）间晶粒边界的衍衬像 ;3.组织观察;NiAl（7）合金中的析出相
（a）明场像，g=220 （b）中心暗场像，g=110
（c）SADP（选区衍射谱），B//[ ] （c）SADP，B//[010];二、 TEM的其它功能简介;2．会聚束衍射分析; Si晶体[111]倒聚束衍射花样 ;3．高分辨电子显微术;SiN中晶界非晶层(厚度1nm左右)
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