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摘 要
氧化亚铜(Cu O )是一种禁带宽度较小的p 型半导体材料,具有良好的光催化
2
性能,广泛用于光催化领域。然而,Cu O 的光生电子-空穴容易复合,导致光催化
2
活性较低。因此,如何降低Cu O 中光生电子-空穴的复合一直是提高其光催化活性
2
的关键问题。本研究通过半导体复合和降低Cu O 晶粒尺寸来提高Cu O 的光催化
2 2
活性。
本研究采用阳极氧化法制备纳米Cu O 和Cu O/WO 复合半导体薄膜,研究了
2 2 3
电压、温度、时间、电解液浓度以及退火等工艺参数对样品形貌和性能的影响,通
过XRD 、EDS、SEM、TEM、UV-vis 光谱、I-t 、Mott-Schottky、EIS 等分析测试手
段对Cu O 和Cu O/WO 复合半导体的结构和性能进行了表征。研究结果表明:采
2 2 3
用阳极氧化法在碱性和酸性溶液中均可以得到纳米Cu O/WO 复合半导体,半导体
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复合可以有效提高 Cu O 半导体材料的光电流密度和载流子浓度,从而提高 Cu O
2 2
的光催化活性。在KOH 溶液中10 V 电压下阳极氧化后再经350 ℃退火处理,得到
2
了颗粒结构的Cu O/WO 复合薄膜,其光电流密度达到最大值为1.977 mA/cm ,是
2 3
纯Cu O 薄膜的49 倍。在HNO 溶液中0.6 V 电压下阳极氧化后再经400 ℃退火处
2 3
理,制备出了纳米片状结构的Cu O/WO 复合半导体薄膜,其光电流密度达到0.68
2 3
2
mA/cm ,是纯Cu O 薄膜的17 倍。与纯Cu O 半导体薄膜相比,Cu O/WO 复合半
2 2 2 3
导体薄膜大大增加了复合薄膜中的光电流密度和载流子浓度,提高了 Cu O 的光催
2
化活性。
关键词:阳极氧化 氧化亚铜 氧化钨 复合半导体 光电化学性能
I
目 录
摘 要 I
Abstract II
1 引 言1
2
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