拓荆科技-市场前景及投资研究报告：国产薄膜沉积设备龙头，成长动力.pdfVIP

公 司 研 拓荆科技 （688072.SH） 国产薄膜沉积设备龙头，成长动力充足 究 2022 年06 月22 日 ——公司首次覆盖报告 投资评级：买入 （首次） 日期 2022/6/22 当前股价(元) 148.56 ⚫ 国产薄膜沉积设备龙头，首次覆盖给予“买入”评级 公 一年最高最低(元) 164.60/88.10 公司是国内半导体薄膜沉积设备厂商，同时是国内目前唯一产业化应用PECVD 司 总市值(亿元) 187.90 和SACVD 的国产厂商。受益于全球半导体行业的高景气度、国内新增晶圆产能 首 次 流通市值(亿元) 38.88 建设的推进，以及半导体制造工艺进步带来的沉积设备需求增长，同时 覆 总股本(亿股) 1.26 需求强烈，公司募投扩产，成长动力充足。我们预计2022-2024 年公司可分别实 盖 报 流通股本(亿股) 0.26 现 EPS 1.04/ 1.60/2.98 元，归母净利润 1.31/2.03/3.77 亿元，当前股价对应 PS 告 近3 个月换手率(%) 506.21 15.21/9.86/7.74 倍，首次覆盖给予“买入”评级。 ⚫ 薄膜沉积设备市场空间大，需求强劲，成长动力足 股价走势图 半导体行业景气带动设备稳定增长，薄膜沉积是关键设备，市场规模占半导体设 备的20% 。根据Maximize Market Research 数据统计，2021 年全球薄膜沉积设备 拓荆科技 沪深300 90% 市场规模为190 亿美元，同比+10.5% ，预计2025 年有望达到340 亿美元，2021- 60% 2025 年CAGR 达15.7%。行业基本由应用材料（AMAT ）、先晶半导体（ASMI ）、 30% 泛林半导体（Lam ）、东京电子（TEL）等国际巨头垄断， 空间较大。未 0% 来随着晶圆厂扩产带动设备需求、芯片制程升级，薄膜沉积设备需求量增加、 -30% ，国内薄膜沉积设备厂商将迎来黄金发展机遇。 开 -60% 源 2021-06 2021-10 2022-02 2022-06 ⚫ 公司技术实力强大，具备稀缺性，客户资源优质，成长动力充足 证 数据来源：聚源 公司重视研发，高研发投入，掌握核心技术，公司产品总体性能和关键性能参数 券 已达到国际同类设备水平。在PECVD 、ALD 及SACVD 设备领域，公司已形成 证 券 覆盖二十余种工艺型号的薄膜沉积设备，满足下游客户晶圆制造产线多种薄膜沉 研 积工艺需求，目前公司也在持续进行先进技术的研发工作。客户资源优质，已经 究 报 成功导入 、长江存储、华虹集团等国内知名客户。目前公司合同负债维 告 持高位，部分发出商品持续认证中，且募投扩产，未来产能和技术实力将进一步 提高，成长动力充足。 ⚫ 风险提示：募投项目扩产不及预期、行业竞争加剧风险，行业景气度下滑风险、 技术研发不及预期风险。