试论集成电路芯片封装.pptVIP

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关键工艺—底片制作 底片制作是图形转移的基础,根据底片输出方式可分为底片打印输出和光绘输出。通常采用计算机辅助设计系统(CAD)进行设计后通过计算机辅助制造系统(CAM)转换成光绘底片。 PCB源文件 Gerber格式输出 Gerber格式文件 Cam软件导入 Cam软件编辑输出 底片输出 第一页,共二十八页。 线路制作是将底片上电路图案转移到覆铜板上,电镀锡后保护所需部分,经后续去膜腐蚀即完成线路制作。 湿膜 烘干 曝光 显影 镀锡 去膜 腐蚀 干膜 抛光 关键工艺—线路制作 第二页,共二十八页。 关键工艺—线路制作 线路设计图用光刻机印成胶片,将需保护的电路图案等用感光干膜或网印湿膜保护。光通过胶片照射到感光干膜上,透光处干膜硬化,紧紧包住基板表面铜箔,经显影后,去除未硬化干膜,露出不需要保护的铜箔。感光干膜和湿膜作用一样,比湿膜更方便,但成本比湿膜高。 采用腐蚀铜的化学药品对基板进行腐蚀,该过程可称为蚀刻,将没有保护的铜腐蚀掉,膜保护下的铜箔作为电路图案呈现在基板上—图形转移 第三页,共二十八页。 抛光 作用:去除覆铜板金属表面氧化物保护膜及油污 作用原理:加压喷水冲洗,使表面处理干净;开启风机,保证线路板经过风机装置时,能烤干覆铜板表面水份;通过速度调节旋钮调整传送轮速度;抛光机自动完成板材去氧化物层、油污等全过程。 第四页,共二十八页。 网印湿膜技术 网印又称为湿膜技术,是与干膜技术并存的电路图形转移技术。 湿膜工艺是制作单面印制板的关键工艺,采用专门的印料,在覆铜板上印出电子线路、阻焊层和字符标记等图形。网印湿膜与干膜技术得到的效果是一样的:保护不需蚀刻的铜箔,采用的材料(感光油墨和感光干膜)和工艺不同。 第五页,共二十八页。 干膜后样板 干膜前样板 GTM3000自动覆膜机 干膜工艺 第六页,共二十八页。 MSM3000丝印机 刮感光油墨后样板 刮感光油墨前样板 湿膜工艺 第七页,共二十八页。 刮好感光油墨的线路板需要烘干,根据感光油墨特性,烘干机温度设置为:75度,时间为:15分钟左右。 操作步骤:放置电路板→设定温度时间 烘干(湿膜工艺) 烘干机 第八页,共二十八页。 线路对位是对完成图形转移的覆铜板进行对位,根据CAM软件里设置的定位孔进行定位。 线路对位并曝光 第九页,共二十八页。 显影是将未曝光的膜层部分除去得到所需电路图形的过程。要严格控制显影液的浓度和温度,显影液浓度太高或太低都易造成显影不净。显影时间过长或显影温度过高,会对膜表面造成劣化。 显影机 显影后 显影前 线路显影 第十页,共二十八页。 化学电镀锡主要是在线路部分镀上一层锡,用来保护线路部分不被蚀刻液腐蚀,同时可增强电路板的可焊接性。 CPC3000镀锡机 镀锡前 镀锡后 电镀锡 第十一页,共二十八页。 因经过镀锡后留下的膜全部去掉才能漏出铜层,而这些铜层都是非线路部分,需要蚀刻掉。所以,蚀刻前需要把电路板上所有的膜清洗掉,漏出非线路铜层。 去膜前 去膜后 去膜 第十二页,共二十八页。 腐蚀是以化学的方法将覆铜板上不需要部分的铜箔除去,使之形成所需要的电路图。 AEM3030腐蚀机 腐蚀 腐蚀前 腐蚀后 第十三页,共二十八页。 主要用于阻焊膜工艺(OSP)中,实现铜防氧化工艺。(如果不采用OSP工艺不需要褪锡) 褪锡后 褪锡前 AES6000全自动褪锡机 褪锡 第十四页,共二十八页。 阻焊制作是将底片上的阻焊图像转移到腐蚀好的线路板上,主要作用有:防止在焊接时线路不被轻易短路、保证焊接后线路不被轻易短路、美观等。如果线路板需要做字符层必须要做阻焊层。其制作流程与线路显影前几个工艺流程一样,如下工艺流程图: 湿膜 烘干 曝光 显影 抛光 固化 阻焊制作 第十五页,共二十八页。 MSM3000丝印机 刮阻焊后 刮阻焊前 阻焊层制作 阻焊显影后 第十六页,共二十八页。 烘干 曝光 文字印刷 显影凉干 刮感字符油墨 固化 字符层制作 字符制作主要是在做好的线路板上印上一层与元器件对应的标号,焊接时便于安装元器件,同时方便产品的检验与维修。它与线路制作和阻焊制作工艺流程完全一致。 第十七页,共二十八页。 字符显影后 刮感光字符油墨前 刮感光字符油墨后 字符层制作 第十八页,共二十八页。 多层板之间电信号的导通,需要粘结多层板之前对PCB钻孔,过孔可以将电路板上下位置相应铜线对起来,然后让孔壁覆铜,进而将层间的导线互连在一起。 孔壁带铜的孔称之为导通孔(Plating hole,简称PT孔),需要钻孔机钻出来,钻孔机能钻出很小和很浅的孔,一

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