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可流动性电介质层的稳定方法.pdfVIP

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  • 2023-05-28 发布于四川
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可流动性电介质层的稳定方法.pdf

    本发明公开了一种可流动性电介质层的稳定方法，包括如下步骤：步骤一、采用FCVD工艺形成可流动性电介质层；步骤二、对可流动性电介质层进行固化工艺；步骤三、将可流动性电介质层在臭氧气氛下进行稳定化作业，稳定化作业时间使可流动性电介质层的状态老化到稳定值。本发明能减少稳定化作业时间，能增加可流动性电介质层稳定后的密度和质量。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112382604 A (43)申请公布日 2021.02.19 (21)申请号 202011201684.3 (22)申请日 2020.11.02 (71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司

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