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本发明公开了一种具量子点的画素基板及其制作方法，其中该具量子点的画素基板包含：一透明基板；一黑矩阵层，形成于该透明基板的表面，并定义数个像素空间；数个量子点胶层，个别形成于该数个像素空间中；及其中，该黑矩阵层由负型光阻材料硬化制作而成，且构成倒梯形或漏斗形结构，而使该些像素空间构成一正梯形或倒漏斗形的碗状结构。据此可简化量子点所构成的像素基板的制程与其结构。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 112634766 B
(45)授权公告日 2023.04.07
(21)申请号 201910904105.2 (56)对比文件
(22)申请日 2019.09.24
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