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基于远程等离子体的硼氮化物、硼碳化物和硼碳氮化物膜的沉积.pdfVIP

基于远程等离子体的硼氮化物、硼碳化物和硼碳氮化物膜的沉积.pdf

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    可使用远程等离子体化学气相沉积(CVD)技术沉积硼氮化物膜、硼碳化物膜、或硼碳氮化物膜。将含硼前体提供至反应室，其中含硼前体具有与氢原子键合的至少一个硼原子。例如氢自由基物质之类的自由基物质从远程等离子体源以基本上低能态或基态提供并且进入反应室。烃前体可随着含硼前体一起流动，且含氮等离子体物质可随着自由基物质一起从远程等离子体源导入反应室。含硼前体可随着烃前体和含氮前体中的一者或两者一起与自由基物质相互作用，以沉积硼氮化物膜、硼碳化物膜、或硼碳氮化物膜。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112673123 A (43)申请公布日 2021.04.16 (21)申请号 201980058950.0 (74)专利代理机构 上海胜康律师事务所 31263

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