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- 2023-08-04 发布于河南
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摘要:制药企业为了保证产品质量,必须确保质量管理体系正常运行。但是,由
于质量系统组成的庞大和复杂性,每个制药企业的质量保证系统都处于波动变化
中。因而,制药企业针对质量系统的关键要素,需要持续地,定期地对质量系统
进行维护和纠正。在GMP质量管理学发展过程中,偏差管理系统、OOS系统和CAPA
系统是不同历史阶段出现的质量系统维护工具。为了帮助制药企业更好的理解和
应用这些工具,作者结合自己的工作经验和相关指南、
著作,对这3个系统进行比较和分析,并系统研究各自特点和差异。
关键词:质量;GMP;OOS;偏差;CAPA;QBD
1概念比较
为了帮助读者清楚地掌握3个系统的差异,这里先给出3个系统的概念,并
进行适当比较。偏差管理系统:根据ICHQ7中的定义,偏差(Deviation)是指对
批准指令(生产工艺规程、岗位操作法和标准操作规程等)或规定标准的任何偏离。
根据偏差对药品质量影响程度的大小,可将偏差分为微小偏差、一般偏差和严重
偏差。偏差根据发生的性质可以分为可预见偏差和不可预见偏差。可预见偏差多
指药品生产过程中基于以往经验可以预先判断的偏差情况。
OOS系统:根据FDA 的OOS指南 (2006版),OOS (outofspecifications)
术语包括所有的超出新药申请 (NDA)、药物主文件DMF,官方手册
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