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低渗气藏微观孔隙结构及其分布规律 低渗透气体和丰富的天然气储量，其占世界天然气产量的比例逐年上升。我国已探明的天然气储量中低渗透气藏储量约占40%,在大中型气田中低渗透气藏储量约占气藏储量的60%。今后将较多地面临致密深层低渗气藏。如何经济有效地开发好低渗气田,不但关系到我国天然气工业快速发展急需解决的重大课题,更是我国21世纪能源得以持续发展的战略问题。大量的勘探开发实践表明, 储层的微观孔隙结构直接影响着储层的储集渗流能力, 并最终决定着气藏产能的大小。因此,研究低渗气藏的微观孔隙结构具有重要的现实意义。 孔隙在结构上可以划分为孔道和喉道。油层物理中的压汞法是专门用于探测孔隙结构的试验技术。常规压汞是在恒定某一进汞压力下通过计量进汞量来计算对应于该进汞压力的喉道大小,通过一系列进汞压力试验来给出岩样中喉道大小分布。从常规压汞的试验过程来看,它只是给出了某一级别的喉道所控制的孔隙体积,并没有直接测量喉道的数量,因此只能给出喉道半径的饱和度分布。而这个分布由于掺杂了孔道体积的因素,所以并非准确的喉道分布。而恒速压汞技术在试验进程上实现了对喉道数量的测量,从而克服了常规压汞的不足。由于恒速压汞技术能同时得到孔道和喉道的信息,这对于孔、喉性质差别很大的低渗气藏显得尤其重要。笔者利用恒速压汞技术对苏里格和迪那低渗气藏的微观孔隙结构及其分布规律进行研究,提出了表征气体通过储层难易程度的特征参数。 1 进汞压力及进汞速度试验 恒速压汞维持非常低的进汞速度,保证了准静态进汞过程的发生。在此过程中,界面张力与接触角保持不变;进汞端经历的每一个孔隙形状的变化,都会引起弯月面形状的改变,从而引起系统毛管压力的改变。其过程如图1所示。当进汞前缘进入到主喉道1时,压力逐渐上升,突破后,压力突然下降,如图1(b)第一个压力降落O(1),之后汞将逐渐将这第一个孔室填满并进入下一个次级喉道,产生第二个次级压力降落O(2),以下渐次将主喉道所控制的所有次级孔室填满。直至压力上升到主喉道处的压力值,为一个完整的孔隙单元。主喉道半径由突破点的压力确定,孔隙的大小由进汞体积确定。这样喉道的大小以及数量在进汞压力曲线上得到明确的反映。 试验采用美国Coretest公司制造的ASPE730恒速压汞仪。进汞压力0～1000psi(约7MPa)。进汞速度0.00005ml/min。接触角140°,界面张力485×10-5N/cm。样品外观体积约1.5cm3。 2 喉道大小及分布 选取6块来自苏里格和迪那2个气田不同渗透率级别的岩样进行恒速压汞试验,试验参数见表1。岩样测得的孔道半径、喉道半径的分布曲线和累计分布曲线分别见图2、图3和图4。 从图2～4可以看出,对不同渗透率级别的低渗气藏岩心,其孔道大小及分布差别并不大,都是在100～300μm之间,分布频率最大峰值约为25%左右(图2)。差别主要体现在喉道大小及分布上(图3、4),当低渗气藏岩心渗透率为0.030×10-3μm2(即1号岩心)时,喉道半径在0.2μm以下非常集中,累计分布频率达到95%时的喉道半径接近0.5μm,表明其岩心主要的渗流通道为小于0.2μm的喉道控制;当岩心渗透率为0.348×10-3μm2(即2号岩心)时,喉道半径在1.0μm以下非常集中,累计分布频率达到95%时的喉道半径接近0.8μm;当岩心渗透率为1.114×10-3μm2(即4号岩心)时,喉道半径的分布要比前两个宽,既有0.1μm的微小孔喉,也有2.0μm左右的小孔喉,累计分布频率达到95%时的喉道半径接近2.0μm;当岩心渗透率为29.570×10-3μm2(即5号岩心)时,喉道半径的分布要比前几个更宽,既有0.5μm的微小孔喉,也有6.0μm左右的小孔喉,累计分布频率达到95%时的喉道半径接近4.8μm。它说明低渗透、特低渗透储层性质主要受喉道控制,正是喉道大小决定了储层流通性质的好坏,并进而影响开发效果。 3 喉道半径分析 根据文献,渗透率的贡献率ΔKi与喉道半径满足以下关系式: ΔKi=r2iαi∑r2iαi(1)ΔΚi=ri2αi∑ri2αi(1) 式中,ri为岩心某一个喉道半径,m;αi为某一个喉道半径归一化的分布频率。 图5为岩心喉道半径对渗透率贡献的关系曲线。从图5中可以看出,当渗透率小于0.1×10-3μm2(岩样渗透率0.030×10-3μm2,即1号岩心),平均喉道半径为0.2μm,对渗透率贡献的喉道半径区间为0.1～0.3μm;当渗透率在0.1×10-3～1.0×10-3μm2(岩样渗透率为0.348×10-3μm2和0.388×10-3μm2,即2号和3号岩心),平均喉道半径为0.7μm,对渗透率贡献的喉道半径区间为0.2～1.1μm;当渗透率在1.0×10-3～5.0×10-3μm2(岩样渗透率为1.11