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半导体工艺技术;目录;第一章 半导体产业介绍;1.1 半导体工业的诞生;1.2 固态器件;1.3 集成电路;1.4 工艺和产品趋势;特征尺寸的减小和电路密度的提高产生的结果是： 信号传输距离的缩短和电路速度的提高，芯片或电路功耗更小。 1.5 半导体工业的构成 半导体工业包括材料供应、电路设计、芯片制造和半导体工业设备及化学品供应五大块。 目前有三类企业：一种是集设计、制造、封装和市场销售为一体的公司；另一类是做设计和销售的公司，他们是从芯片生产厂家购买芯片；还有一种是芯片生产工厂，他们可以为顾客生产多种类型的芯片。;第二章 器件的制造步骤;第一步材料准备;第三步 芯片制造;3 晶圆制备; 硅晶圆尺寸是在半导体生产过程中硅晶圆使用的直径值。硅晶圆尺寸越大越好，因为这样每块晶圆能生产更多的芯片。比如，同样使用0.13微米的制程在200mm的晶圆上可以生产大约179个处理器核心，而使用300mm的晶圆可以 制造大约427个处理器核心，300mm直径的晶圆的面积是 200mm直径晶圆的2.25倍，出产的处理器个数却是后者的 2.385倍，并且300mm晶圆实际的成本并不会比200mm晶 圆来得高多少，因此这种成倍的生产率提高显然是所有芯片生产商所喜欢的。 然而，硅晶圆具有的一个特性却限制了生产商随意增加硅晶圆的尺寸，那就是在晶圆生产过程中，离晶圆中心越远就越容易出现坏点。因此从硅晶圆中心向外扩展，坏点数呈上升趋势，这样我们就无法随心所欲地增大晶圆尺寸。;随着半导体材料技术的发展，对硅片的规格和质量也提出更高的要求，适合微细加工的大直径硅片在市场中的需求比例将日益加大。目前，硅片主流产品是 200mm，逐渐向300mm过渡，研制水平达到400mm～450mm。据统 计，200mm硅片的全球用量占60%左右，150mm占20%左 右，其余 占20%左右。根据最新的《国际半导体技术指南 （ITRS）》，300mm硅片之后下一代产品的直径为 450mm；450mm硅片是未来22纳米线宽 64G集成电路的 衬底材料，将直接影响计算机的速度、成本，并决定计算机中央处理单元的集成度。;Si的制备过程一般为: SiC（固体）+ SiO2（固体）→Si（固体）+SiO（气体） +CO（气体） Si（固体）+3HCl??气体）→SiHCl3（气体）+H2（气体） SiHCl3（气体）+H2（气体）→Si（固体）+3HCl（气体）;3.2 晶体生长;3.2.1 直拉法 大部分的单晶都是通过直拉法生长的。生产过程如图所示。 特点：工艺成熟，能较好地拉制低位错、大直径的硅单晶。缺点是难以避免来自石英坩埚和加热装置的杂质污染。;3.2.2 液体掩盖直拉法 此方法主要用 来生长砷化镓晶体，和标准的直拉法一 样，只是做了一些 改进。由于熔融物 里砷的挥发性通常 采用一层氧化硼漂 浮在熔融物上来抑 制砷的挥发。故得 其名，如图所示。;3.2.3 区熔法 主要用来生长低氧含量的晶体，但不能生长大直径的单晶，并且晶体有较高的位错密度。这种工艺生长的单晶主要使用在高功率的晶闸管和整流器上，生长系统如图所示。;3.3 晶体外延生长技术;外延生长的基本原理;硅的CVD外延 化学气相淀积是指通过气态物质的化学反应在衬底上淀积一层薄膜材料的过程。;分子束外延 分子束外延（MBE）是在超高真空条件下一个或多个热原子或热分子束蒸发到衬底表面上形成外延层的方法 。; 分子束外延是一种新的晶体生长技术，简记为MBE。其方法是将半导体衬底放置在超高真空腔体中，和将需要生长的单晶物质按元素的不同分别放在喷射炉中（也在腔体 内）。由分别加热到相应温度的各元素喷射出的分子流能在上述衬底上生长出极薄的（可薄至单原子层水平）单晶体和几种物质交替的超晶格结构。分子束外延主要研究的是不同结构或不同材料的晶体和超晶格的生长。该法生长温度低，能严格控制外延层的层厚组分和掺杂浓度，但系统复杂，生长速度慢，生长面积也受到一定限制。;3.4 晶体缺陷及对器件质量的影响;高温工艺过程引入的位错 掺杂过程中引入的位错 薄膜制备过程中引入的位错 无论是天生的还是诱生的缺陷对器件特性都是不利的，因此在芯片制造过程中都应该尽量避免。;3.5 晶片加工;磨片 因为用机械的方法加工的晶片是非常粗造的，如图所示，它不可能直接使用，所以必须去处切片工艺残留的表面损伤。 磨片----是一个传统的磨料研磨工艺;抛光 普通的磨片完成过后硅片表面还有一个薄层的表面缺陷。现在的抛光是机械加化学，经过抛光工艺后使硅片表面真正达到高度平整、光洁如镜的理想表面。;第四章 芯片制造;生长工艺如图所示。其中蒸发工艺、溅射等 可看成是直接生长法------以源直接转移到衬底上形成薄膜；其它则可看成是间接生长法-----制备薄膜所需的原子或分子，由