CVD碳化硅涂层产品技术要求征求意见稿.pdfVIP

CVD碳化硅涂层产品技术要求 CVD silicon carbidecoatingproducttechnicalrequirements （征求意见稿） T/CASME XXXX—XXXX 目 次 前言II 1 范围1 2 规范性引用文件1 3 术语和定义 1 4 一般规定 1 5 技术要求 1 6 试验方法2 7 检验规则4 8 标志、使用说明书、包装、运输和贮存5 I T/CASME XXXX—XXXX CVD 碳化硅涂层产品技术要求 1 范围 本文件规定了CVD碳化硅涂层产品的术语和定义、一般规定、技术要求、试验方法、检验规则及 标志、使用说明书、包装、运输和贮存内容。 本文件适用于CVD碳化硅涂层产品。 2 规范性引用文件 下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中，注日期的引用文件， 仅该日期对应的版本适用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本 （包括所有的修改单）适用于本 文件。 GB/T 7997 硬质合金 维氏硬度试验方法 GB/T 9969 工业产品使用说明书 总则 GB/T 16535 精细陶瓷线热膨胀系数试验方法 顶杆法 GB/T21782.2 粉末涂料 第2部分：气体比较比重仪法测定密度(仲裁法) GB/T 31563 金属覆盖层 厚度测量 扫描电镜法 3 术语和定义 下列术语和定义适用于本文件。 化学气相沉积 chemicalvapor deposition(CVD) 是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上 进行化学反应生成薄膜的方法。 碳化硅涂层 silicon carbidecoating 是指采用物理或化学气相沉积、喷涂等方法在零件表面制备SIC涂层的方法。 4 一般规定 石墨基底原料应满足涂层的要求。 石墨基底原料应经过纯化，纯化后杂质含量应小于10ppm。 涂层厚度：50μm～300μm。 涂层表面应光滑平整，无裂纹、划痕、分层气泡等现象，无涂抹、污点或缺角。 涂层的色泽应为灰色并有金属光泽。 5 技术要求 涂层厚度 根据不同行业需求，化学气相沉积法制备石墨表面碳化硅涂层厚度可调整。 涂层密度 3 化学气相沉积法制备碳化硅涂层的理论密度为3.2g/cm ，如果测试密度结果偏差达到﹣20%，则说 明该涂层并不致密。 涂层弯曲强度 化学气相沉积法制备碳化硅涂层的理论弯曲强度为：540℃时，345MPa；1300℃时，172MPa。 1 T/CASME XXXX—XXXX 涂层抗压强度 化学气相沉积法制备石墨表面碳化硅涂层的抗压强度理论数值为：428MPa。 涂层耐化学性 5.5.1 耐酸性 涂层试样分别在下列酸性腐蚀液 （37%HCl （盐酸）、98%H2SO4 （硫酸）、65%HNO3 （硝酸）和 HF