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光刻物镜极平衡的综合调制 1 光仿真结果分析 对于深度紫外的光刻成像，光瞳孔的极端平衡指数用于评估光刻光源傅立叶谱光谱光谱的曝光强度的对称性和平整性。影响因素主要包括：1）材料和膜层的透射率的均匀性；2）光学元件的安装和制造缺陷；3）在照明系统和物镜匹配过程中，产生的远心误差。它们对光瞳极平衡性的调制效果也不尽相同:其中因素1) 主要影响各视场点光瞳强度的对比度差异, 尤以对轴外视场点的影响最为显著, 但对角空间光瞳的旋转对称性分布不产生任何影响;而因素2) 中的装调失配 (尤其是倾斜与偏心失配) 将对旋转对称性产生重要影响, 表现为光瞳形状的整体偏移;对于因素3) , 在照明系统与物镜系统集成过程中, 由于照明系统在掩模面的远心度与物镜的物方远心度设计值存在差异, 匹配后所引入的像方远心误差将重新定义成像光锥的指向, 这将产生与因素2) 相类似的光瞳形状的整体偏移。曝光系统的远心匹配误差与极平衡分别为两个相对独立的评价准则, 但业内并无明确界定。极平衡性指标主要评价由因素1) 与因素2) 对光瞳分布的贡献, 而事实上, 远心匹配误差将对所有视场 (FOV) 点的光瞳极平衡性进行二次调制, 使之在原有分布的基础上产生一个附加的光瞳偏心。这样, 因素2) 与因素3) 对极平衡性的贡献将耦合在一起而无法分辨, 系统的远心度指标也难以从极平衡性的测量结果中直接反演出来。 光刻物镜的物方远心设计值要与照明系统的远心相匹配才能有效约束整个曝光系统的远心度。物镜名义上为双远心系统, 其物、像方均应具备理想远心, 但受制于物镜设计水平以及照明系统在掩模面的远心输入, 在照明系统与投影物镜的光路匹配过程中将在像方 (硅片) 引入远心偏差, 通常为毫弧度量级。该远心偏差不仅对成像对比度产生影响, 而且引起光瞳强度质心的偏移, 在系统测试环节将与光瞳强度测量结果发生耦合, 继而干扰光瞳极平衡性指标正确测量。因此, 有必要将被远心所调制的这部分光瞳分布进行解耦, 通过数值处理方法从已耦合的仿真或测量数据中分离远心度和极平衡性指标。 本文在仿真层面, 对光瞳指标的远心偏差予以解耦和标定。针对数值孔径 (NA) 0.75物镜设计方案的光瞳仿真结果, 通过Matlab外部程序调用光学设计软件Code V对光瞳数据进行解耦运算。分别采用远心标定和质心标定两种方法对极平衡指标进行修正与评价, 并对结果进行分析比较。 2 光度指数与远心度的结合和分解 2.1 角平面划分方法 离轴照明模式用于分辨率增强技术, 光瞳极平衡性即是对物镜照明模式特别是离轴照明模式的辐射强度对称性的一个强力约束。合格的投影光刻系统, 其全视场所有视场点均须具备良好的光强一致性, 以保障刻线的对比度及分辨率。图1为光瞳角空间的一种划分方法, 表征硅片上任一视场点辐强度分布, 坐标轴H和V将角平面划分为四个象限。其中象限1、4合为H+区域, 2、3象限合为H-区域, 1、2合为V+区域, 3、4合为V-区域。相应的, 可将极平衡划分为H方向、V方向和四象限 (Quad) 共三个指标, 分别表征光瞳面正负场间及象限间的光强偏差。可定义极平衡性的一种评价方法 式中是角平面中第i个区域的光强积分, i可根据角平面划分方法对号入座, 例如, 对于H方向极平衡性划分为H+、H-;对于V方向极平衡性划分为V+、V-;对于Quad极平衡性划分为1、2、3、4。一般, 极平衡性需低于4%, 对于高NA物镜则要求更为严格。 2.2 光瞳的三维光野 对于曝光系统的远心度, 可从能量质心或成像主光线的层面给出不同的定义, 且不同定义下所对应的远心度在数值上存在一定差异。严格来讲, 以能量质心定义的远心度应更为准确, 但由于研究对象为远心度耦合前后的光强分布的相对变化, 因此以何种方式定义远心度并不影响光瞳指标的解耦与标定。因此, 以视场点成像主光线与系统光轴的夹角定义为该视场点的远心度。 携带照明系统远心度的入射光光束将在掩模面重新定义物镜的物主光线方向, 继而经物镜传递, 重新定义曝光系的像方远心度。图2为光学系统子午面内远心度传递示意图, 其中物、像方光锥中心实线分别代表物、像方主光线方向;虚线代表平行于光轴的理想远心方向。在数值孔径约束下的成像光锥, 将以像点F′i为转动中心产生一个微小的偏转角度θ′i, 于是, F′i视场点的光强探测方向与实际能量传输方向 (光锥主光线方向) 就发生了偏离, 表现为光瞳偏心。光强的探测方向受到远心度匹配方向的调制, 其角度偏差即为光锥转轴与系统光轴的夹角θ′i, 即子午面的像方远心度。 三维情况下, 如图3所示, 硅片面上, cone 1′为理想远心光锥, 其对称轴指向为光强探测方向;cone 2′为受到远心度调制的实际成像光锥, 其对称轴指向为实际的光强投影方向。两