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维普资讯
印制 电路与贴装2001年第七期
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PCD髓 ■
By George Trinite
今天的超密间~E(ultra,fine 超密问距的成像
pitch)的元件对制造商提出了一 成功地对超密问距(0.020)的
个挑战,不仅要用传统的工艺 方平包装元件(QFP,quadflatpack)
来满足板的表面共面性,而且 的焊盘进行成像 , 今天 的技
要以更快 、更便宜地提供更可 术不是一个 问题 。而正是连接
靠 的产品。 密 距元件的信号线与空隔对
+ 个印刷电路板制造商怎样 PCB制造商产生了成像的挑战。
可 以连续地生产出板的表面共 新的技术,如直接激光成像和
面性 品质,使它满足在 今天的
投影 或像,可能枸成细线再生
设计紧密分布的焊盘上沉淀准 产的未来 可是,大多数PCB制
确 、数量连续稳定的锡膏?材 造商现在还正在使用传统 的紫
料的适当选择是最基本的。考 外(UV)接触 印刷,用铰链连接
虑 的因素包括板的物理与 电气 的玻璃框架来改善原版的前后
特1生、其尺寸的稳定性 、阻抗特 对位,结果造成离位印刷 这个
l生、z轴延伸率、和均匀性与表 技术还可以生产低至O.003“的线
面情况 。事实上,所选择的材料 与问隔。可是.使用下列技术的
的均匀性与表面情况可能影响 某些或全部将改善细线的成像
最后的表面共面性 合格率:
对于主要由超密间距板所组 · 曝光单元的高度校准的光
成的多层电路板、晾材料板层 · 较精密的曝光源
的选择不应该影响表面共面性 · 显影剂化学品的良好控制,
可是 超密间距产品,通常是 首选…种供给与排放(feed—and·
很密的电路为特征,要求板层 bleed)系统
具有光滑的表面 一 通常叫做 · 在曝光之前从干胶片上去
“表面增强的”材料。这种板层 掉覆盖纸
的特 点是高含树脂 的聚酯胶片 · 采用较薄的(0.001)“光刻胶 前,设备必须设定。这个可 通
(resin,richprepregs)反贴传统的 (photoresist) 过显影一个有0.002~0.003”的线
O.0007”(0.O1778mm)的铜箔。因
与间隔的小型试验 图案来完成
此,对PcB制造商来说,最后电 蚀 刻
一 步一步地 、均匀地在一个标
路板的光滑表面是 以板层制造 和超密间距成像一样,对
准尺寸的板上重复 。使用这个
商的表面增强材料所产生的相 PCB制造商的挑战是精细的导
试验 图案,板从蚀刻设备中通
同方式完成 的 一通过将一层 线及其空隔,丽不是QFP。精细
过,从板的顶面测量线,然后与
富树脂的聚酯肢片邻隔作为外 线的蚀刻决定于设备的条件和
低面相 同位置 的进行 比较 。也
层的铜箔。当线和空隔在0004” 要 蚀刻的铜箔厚度 。通过采用
必须 比较板 的前缘到后缘 的以
队下时,使甩超薄铜箔 00035)“将 超薄的铜箔,可实现较高的合
及从右
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