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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 206789520 U
(45)授权公告日
2017.12.22
(21)申请号 201720481928.5
(22)申请日 2017.05.03
(73)专利权人 桂林实创真空数控设备有限公司
地址 541004 广西壮族自治区桂林市铁山
工业园Z-7-1号
(72)发明人 黄以平 李少林 宋宜梅
(51)Int.Cl.
H01J 37/147(2006.01)
(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
权利要求书1页 说明书5页 附图2页
(54)实用新型名称
大功率宽幅电子束偏转扫描装置
(57)摘要
一种大功率宽幅电子束偏转扫描装置,该装
置采用两个独立的线圈,一个用以产生电子束偏
转磁场的偏转线圈,另一个用于产生高频扫描磁
场、分别实现电子束偏转功能和扫描功能的扫描
线圈;所述的偏转线圈由偏转电源提供电源,所
述的扫描线圈由扫描电源提供电源。利用独立的
偏转线圈和扫描线圈分开的结构,解决了传统单
线圈结构难以实现30kw以上大功率300mm以上宽
幅电子束偏转扫描加工的难题,并可通过CNC系
统编程设定合成扫描轨迹及复杂工件加工,可用
于大功率电子束焊机、电子束熔炼炉、电子束三
维打印及其电子束表面处理等大功率电子束加
U 工设备。
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C
CN 206789520 U 权 利 要 求 书 1/1页
1.一种大功率宽幅电子束偏转扫描装置,其特征在于,该装置采用两个独立的线圈,一
个用以产生电子束偏转磁场的偏转线圈(1),另一个用于产生高频扫描磁场、分别实现电子
束偏转功能和扫描功能的扫描线圈(2);所述的偏转线圈(1)由偏转电源(3)提供电源,所述
的扫描线圈(2)由扫描电源(4)提供电源。
2.根据权利要求1所述的大功率宽幅电子束偏转扫描装置,其特征在于,该装置包括:
用于编制数控程序的上位控制计算机(5)、下位可编程控制器PLC(6);所述的偏转线圈(1)
包含偏转线圈铁芯(1-1)、x方向偏转线圈(1-2)以及y方向偏转线圈(1-3),所述的扫描线圈
(2)包含扫描线圈铁芯(2-1)、x方向扫描线圈(2-2)以及y方向扫描线圈(2-3);所述的偏转
电源(3)给x方向偏转线圈(1-2)和y方向偏转线圈(1-3)供电,所述的扫描电源(4)给x方向
扫描线圈(2-2)和y方向扫描线圈(2-3)供电;
所述的上位控制计算机(5)通过通讯总线连接所述的下位可编程控制器PLC(6),所述
的下位可编程控制器PLC(6)将数字信号转换成模拟信号并将控制信号输出到所述的偏转
电源(3)和所述的扫描电源(4),所述的偏转电源(3)将偏转电流接入到所述的偏转线圈
(1),实现电子束偏转;所述的扫描电源(4)将扫描电流接入到所述的扫描线圈(2),实现电
子束扫描;所述的偏转线圈(1)和所述的扫描线圈(2)装在电子枪聚焦线圈(7)下面,所述的
偏转线圈(1)安装在所述的扫描线圈(2)上面。
3.根据权利要求1所述的大功率宽幅电子束偏转扫描装置,其特征在于,所述的偏转线
圈(1)与所述的扫描线圈(2)之间的匝数比为5:1至10:1之间。
4.根据权利要求2所述的大功率宽幅电子束偏转扫描装置,其特征在于,所述的x方向
偏转线圈(1-2)与所述的y方向偏转线圈(1-3)之间的匝数比为1:1,所述的x方向扫描线圈
(2-2)与所述的y方向扫描线圈(2-3)之间的匝数比为1:1。
5.根据权利要求1或2所述的大功率宽幅电子束偏转扫描装置,其特征在于,当电子束
进入所述的偏转线圈(1)之
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