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yag激光材料的制备与应用 yg（yttriumal.ganhet）的药理作用为y3al5o12。它是y2o3和al2o3反应产生的复杂氧化物。作为一种导电晶系，它具有石榴石结构。yag晶具有良好的透光性，具有高度蒸发性（1930）、高强度、高热容率和高物理性能的特点。无论是作为一种功能性材料还是结构材料，它都显示出良好的应用前景。在光学领域，yag是一种非常优秀的激光材料。当它与nd、er、ho、ts、cr和其他稀土或过渡金属离子混合时，yag晶是优良的激光晶体。近年来，随着对人类安全被动q开关晶体材料的研究的增多，人们开始关注将g中的钠（v）离子含量，以获得良好的人类安全光学输出。 激光基质通常为单晶或玻璃材料, 工业上制备YAG单晶的主要手段是提拉法.该方法过程复杂、缓慢, 生长设备昂贵, 对晶体的生长尺寸、掺杂浓度有严格制约, 大大局限了激光材料的应用范围.科学家们一直致力于寻找一种能制备YAG激光材料的新方法, 透明陶瓷技术提供了这种可能性. 1 均相沉淀法 20世纪60年代开始, 科学家就已经开始研制透明陶瓷材料.作为广泛使用的激光工作物质之一, 80年代中期, YAG陶瓷多晶材料的研究成为热点.1984年, De With G以Si O2和Mg O作为添加剂, 采用喷雾干燥法制备出前驱体粉末, 经冷等静压成型, 在真空条件下于1800℃烧结出YAG透明陶瓷, 其相对密度近100%, 透光率在50%—80%, 其中Si O2和Mg O为烧结助剂, 起到晶体生长抑制剂的作用.1990年Sekita M采用均相共沉淀法, 以尿素作为沉淀剂制备出Nd3+:YAG前驱体粉末, 经冷静压成型和真空烧结制备出透明陶瓷材料, 该陶瓷的光学性质和采用提拉法以及区熔法生长出来的单晶几乎一致.但在初期由于制备出的Nd3+:YAG陶瓷存在大的背景吸收而没能获得激光输出.直到1995年, 才由Ikesue等以高纯氧化钇和氧化铝为原料, 经等静压成型, 采用高温固相反应方法制备出了高度透明的YAG和Nd:YAG陶瓷.对其折射率、热导率、硬度等物理特性的测量结果表明, Nd:YAG透明陶瓷与Nd:YAG单晶类似, 某些发光性能已优于Cz方法制备的高品质单晶.同时, 世界上第一台能与Nd:YAG单晶激光器相媲美的透明Nd:YAG陶瓷激光器诞生.1995年, Takakimi Y等采用粉末成型以及真空烧结技术相结合的方法制备出高透明的激光陶瓷材料.随后, 日本Konoshima化学公司采用改进的尿素共沉淀方法制备出高质量的透明Nd:YAG陶瓷, 其在1064nm处的散射损耗接近0.002cm-1, 它的吸收、发射和荧光寿命等光学特性与单晶几乎一致.在这之后, 一系列二极管泵浦的Nd:YAG陶瓷激光器被研制成功, 其激光输出功率大幅度提高, 目前, 1064nm连续激光输出的最大功率已提高至1.46k W, 光-光转换效率达到42%.Ueda指出通过不断改进技术, 上述Nd:YAG陶瓷棒激光装置输出功率可望达到10k W.YAG陶瓷和掺杂YAG激光材料的发展前景一片光明. 2 高质量yg微细粉体的合成 YAG透明陶瓷的制备包括制粉, 成型, 烧结和机械加工等过程.其技术关键是: (1) 高质量YAG微细粉体___________________________合成技术; (2) 多晶YAG透明陶瓷的致密化烧结技术. 2.1 粉体的制备工艺 制备高性能的YAG透明陶瓷或掺杂YAG陶瓷激光器, 都需要性能优异的YAG粉体, 陶瓷粉体质量的好坏直接影响最终成品的质量.制备粉料的方法对陶瓷的透光性有很大的影响, 目前主要采用固相法和液相法工艺来制备YAG粉体. 2.1.1 陶瓷体磨抛的制备工艺 这种方法将高纯度Y2O3和Al2O3原料粉末直接按照比例 (n (Al) :n (Y) =5:3) 混合, 并添加一定的烧结辅助剂, 经过长时间球磨, 将混合均匀的粉体材料经模压或等静压成型后, 在约1800℃高温真空下烧结来制备高度透明的YAG陶瓷 (真空度10-3Pa) , 最后对烧成的透明陶瓷体磨抛处理. 固相法所用设备比较简单、操作方便, 但需要较高的反应温度和较长的反应时间.而且用球磨方式混合原料难以达到化学组成均一, 粉料的细度不能得到保证, 导致粉料的烧结活性低、纯度低、颗粒尺寸分布范围宽、颗粒粗, 均匀性差.即使采用热压法烧结, 也不易形成高密度的组分均匀的陶瓷, 适合于对晶体质量要求比较低的场合. 2.1.2 传统yg粉体的制备方法 液相法 (湿化学法) 被认为是制备YAG纳米粉体的理想途径.其显著特点是能以较低成本获得高纯度、组分均匀、高分散团聚少、粒度和形状可以控制、颗粒细的超微粉.该方法以均相的溶液为出发点, 通过各种途径使溶质与溶剂分离,