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同步辐射装置两相晶体衍射增强成像的实验研究 1. 晶体结构同构 散射增强成像方法是近年来发展迅速的硬x射线相位成像方法的一个研究领域。20世纪90年代初，经过一些成功的应用，北京同步成像设备的四个同事从一个单元中取出了更好的图像质量。在相位补偿成像方法获得一些成功后，北京同步成像装置的两个晶态成像结果表明，在相位补偿成像方法中取得了一些成果。在接下来的两年里，使用了两种晶体（一种是ct，另一种是分析晶体）进行了性能和成像。虽然已经报告了两种晶体，但似乎没有研究晶体热胀对性能增强的影响。在这项工作中，我们指出，晶体轴的转射轴垂直于同步辐射的振幅表面，这基本上可以避免晶体热胀的影响，获得更好的图像质量。实验结果表明，该分析的准确性。 本文简述衍射增强成像的光路和原理,讨论晶体热膨胀对衍射增强成像的影响和避免晶体热膨胀影响的方法. 2. 晶面反射率的成像机理 利用Si(111)单晶二次谐波消光和三次谐波弱的特点,北京同步辐射装置4W1A光束线形貌学实验站采用一块Si(111)单晶作为单色器,另一块Si(111)单晶作为角度分析器,开展了衍射增强成像方法的实验研究.图1是两块晶体衍射增强成像的基本光路,位于样品前后的单色器晶体和分析晶体采用(+,-)排列,它们是衍射增强成像的基本光学元件.设晶体转轴平行于x轴,y轴位于子午面内,光束传播方向沿z轴. 因为只有满足布拉格角的单色光才能被单色器晶体衍射,所以单色器晶体不仅是单色器,而且是角度滤波器.分析晶体没有单色作用,它仅仅是角度滤波器(或称角度分析器).不放置样品时,两次晶面反射的光强由两块晶体反射率的互相关(即摇摆曲线)决定. 由于分析晶体和单色器晶体完全相同,互相关化为自相关,所以其数学表达式为 式中α为入射同步辐射光线偏离布拉格角的角度,r(α)为单色器晶体的反射率,r(α-β)为分析晶体的反射率,β为分析晶体晶面与单色器晶体晶面之间的夹角.两块晶体反射率由摇摆曲线决定,见图2. 摇摆曲线半高角宽度与完整晶体全反射时的角宽度θD相等,θD又称为达尔文宽度,它与晶体种类、衍射面及x射线的能量有关,一般在弧秒量级,可以用(2)式进行计算, θD=2λ/πΛssin2θB,(2)θD=2λ/πΛssin2θB,(2) 其中θB是布拉格角,λ是x射线的波长,Λs是对称消光长度.Λs可用(3)式进行计算, Λs=Vc/reλΚFΗ,(3)Λs=Vc/reλKFH,(3) 式中Vc是晶胞体积,re=e2/mec2=2.828×10-15m是经典电子半径,K是偏振因数,FH是晶体结构因数. 当把样品放入两块晶体之间时,样品对硬x射线产生吸收,非相干散射,透射,折射和小角散射等相互作用,其中折射是衍射增强成像过程中,样品与硬x射线主要的相互作用,而与折射角相关的衬度(简称折射衬度)形成机理是主要的成像机理.折射率的表达式为 n=1-δ,(4)n=1?δ,(4) δ是折射率的位相项,其数量级为10-6. 因为在硬x射线波段,由轻元素构成的生物软组织,其折射率的位相项是吸收项的1000多倍,所以(4)式中忽略了折射率的吸收项.样品函数为Φ(x,y), 经过样品任一点(x,y)的x射线,其折射角由该样品点的相位梯度ΔΦ(x,y)决定,即 式中Δθx和Δθy分别为xz平面(即弧矢面)和yz平面(即子午面)内的折射角,约为弧秒量级,z2-z1为样品厚度.由于α和β角都位于子午面内,所以晶体衍射只对Δθy发生作用,不对Δθx发生作用.因此衍射增强成像,是一维角度滤波成像.因为篇幅所限,本文忽略与Δθx相关的成像过程.为了获得范围较大的衬度调制线性区域,一般把β调在摇摆曲线的半高宽位置,即令β=?θD2, 有R(?θD2)=0.5. 根据(1)式和图2,可以将折射衬度成像过程用数学式表达出来, 即摇摆曲线的斜率.根据衬度定义和(5)式,可知折射衬度就是相位一阶导数衬度, (6)式所表述的物理过程是具有一定发散度的同步辐射白光,经过单色器晶体的单色和角度滤波的双重作用,变为在子午面内波长随角度不同而变化的单色光,再经过样品折射而稍微偏离原入射方向,然后由分析晶体对子午面内角度偏离量不同x射线进行增强或抑制,从而得到衬度与折射角成正比的样品像.从图2可知,摇摆曲线的斜率越大,衬度增强效应(或信号放大)越显著. 3. 热膨胀的稳定性 在一般的衍射增强成像光路中,晶体转轴平行于同步辐射的偏振面.北京同步辐射装置4W1A扭摆器是单级的,其辐射特点是以偏振面为中心,在垂直于偏振面方向,光强呈高斯分布,在平行于偏振面方向,光强基本不变.因此,同步辐射白光入射到单色器晶体上时,导致晶面沿垂直于晶体转轴方向出现类高斯分布的热膨胀,在平行于晶体转轴方向,晶面基本没有变化,见图3. 设T(y)表示在y坐标处的晶体厚度,l表示单色