在线化学气相沉积法镀膜—硅基阳光控制镀膜.docx

0引言

在线阳光控制镀膜玻璃是在锡槽内采用化学气相沉积法制备的，在浮法玻璃基片上镀上一层高反射的膜层，其具有优良的化学稳定性及深加工性能；多在颜色玻璃基片上制备阳光控制镀膜，颜色多种多样，广泛应用于建筑行业。本文简要介绍硅基薄膜膜系结构的设计、理论计算硅基薄膜镀膜玻璃的膜层厚度、可见光反射率、可见光透过率、配方的计算、生产中的检测项目等，以供参考。

1透过率指标的确定

阳光控制镀膜玻璃按膜层的反射及吸收的关系，主要分为两种：反射型薄膜（反射率R大于吸收率A）和吸收型薄膜（吸收率A大于反射率R）。在线化学气相沉积法硅基薄膜属于反射型薄膜，主要依靠反射达到降低可见光透过率的目的。

（1）硅基薄膜膜系结构

在线化学气相沉积法硅基阳光控制薄膜反射率一般≮40%，膜层吸收率不超过5%，反射率远远大于吸收率，属于反射型薄膜；对于反射型薄膜，效果最佳、最经济、最简单的膜系结构即为λ/4结构。在可见光谱中λ＝555nm时光强最大，计算时选择λ＝555nm作为计算依据。实际生产中在线化学气相沉积法硅基薄膜的折射率一般为2.85～3.15，本文膜层的折射率取值为（后面涉及的反射率、透过率预估计算等都以膜层折射率n＝3为例）：膜层折射率控制在2.85～3.15，膜层厚度控制在44～49nm。

（2）反射率、透过率的预估

n＝2.85、n＝3、n＝3.15时镀膜玻璃的可见光透过率值，见表1。

表1不同折射率条件下镀膜玻璃的理论透过率

2配方计算

我国硅基镀膜生产始于上世纪90年代，经过20多年的发展，大多数厂家在生产时多采用已有配方作为基础配方，生产时根据基础配方进行微调。

3外观检验及性能测试

（1）外观检验

针孔产生原因：①锡槽的滴落物；②排废不畅，料粉掉落；③物料配比不佳，物料过早反应；④温度过高，物料过早反应；⑤下游高度设置不合理。锡槽滴落物产生的针孔为实心针孔，其他原因造成的针孔为空心针孔。

暗道产生原因：①料缝有异物；②端面有异物；③废气缝异物或者积垢太多；④碳化硅结晶；⑤石墨有损伤或者不平整；⑥石墨塞松动；⑦波纹板处有异物或者堵塞。横纹一般不允许横纹的存在。产生原因：①脉冲供料造成的横纹，此横纹多出现在镀膜早期，膜偏薄、透过率高、雾度小；②排废波动造成的横纹，此横纹多出现在镀膜后期，膜偏厚、透过率低、雾度大；③下游高度过高。

斑纹产生原因：①排废及供料不匹配；②槽压的波动；③镀膜器穿入锡槽后的密封不严；④锡槽出口挡帘是否完好，在生产中遇到一侧有很轻的斑纹，距离600mm观测膜面能够看出，调节高度、负压、盖板高度、加强密封后有所缓解但不能根除，检查挡帘发现挡帘破损，更换挡帘后斑纹消失；⑤镀膜器高度设置不合理。膜面划伤不允许出现。产生原因：①碳化硅结晶；②异物；③废气缝中积垢突出。

（2）性能测试可见光透过率

在线多通道可见光透过率测试仪每3分钟一个往返行程，提供2条曲线，时时直观显示每个测量点的透过率；为物料、高度、温度的调节提供判定依据；根据曲线的走势，预判是否调节物料、高度以及调整的幅度；根据曲线的长期走势，可以判定波纹板处是否有堵塞的情况。

膜层厚度、折射率

①采用椭偏仪测试原为在线Low-E玻璃生产监控介质层膜层厚度及折射率的方法，拓展到阳光控制镀膜玻璃测试膜厚、折射率，监控膜厚、折射率的分布，对工艺调节起到非常好的作用。膜层厚度、折射率控制在一定范围内可以实现透过率、色度坐标的精确控制。对于硅基阳光控制镀膜玻璃椭偏仪的边界条件为：膜厚400?，折射率3。常规检测为一个镀膜周期测试一次，3660mm合格板宽测试13点。②光谱曲线法测试300～2500nm反射率，根据光谱曲线以及380～780nm反射率值R，可以计算出折射率n及膜厚d。光学曲线法用于折射率、膜层厚度的估算，所做的膜并不是严格意义的λ/4λ结构，计算结果与椭偏仪实测结果会有一定的偏差；在没有椭偏仪的情况下，光学曲线法得出的结果可以作为参考。

颜色均匀性测试

使用手持式宽光谱测色仪，可以快速测试镀膜玻璃的透过率及透射、反射L*、a*、b*值。一般每2小时测试一次，3660mm合格板宽测试13点，透过、反射模式各测试一次。颜色均匀性的测试不只局限于使用色差仪，也可以使用分光光度计测试380～780nm的反射率、透过率，可以得出反射及透过的L*、a*、b*值。

碱煮实验

100℃1molNaOH溶液煮0.5h；一个镀膜周期测试一次。玻璃碱煮前后需要观察外观的变化；测试透过率，对比碱煮前后透过率的变化。

透过率、雾度测试

采用雾度仪测试，监控镀膜玻璃的透过率及雾度。对于阳光控制镀膜玻璃一般要求雾度小于1%。雾度的大小可以一定程度表征膜层表面的微观平整性，原为测试在线Low-E玻璃、TCO玻璃的雾度，拓展到测试阳光控制镀膜玻璃及平板玻璃。

耐磨