刀口半影最小化的光刻机扫描狭缝研究.docx

刀口半影最小化的光刻机扫描狭缝争论

林栋梁;张方;黄惠杰

【摘要】Scanningslitisanimportantelementforcontrollingexposuredoseinstep-and-scanlithography.Toolargeapenumbraoftheblade””sedgeinscanningslitcouldaffecttheexposure

performance.Firstly,accordingtotheilluminationprincipleofastep-and-scanlithography,thecalculationformulaofthepenumbraoftheblade””sedgeatthereticleplanewasderivedbyanalyzingtherelationshipbetweentheintensitydistributionofthereticleandthethicknessandlocationofthebladesinthescanningslit.Thetheoreticalvalueofthepenumbraofthecoplanarandnoncoplanarblade””sedgesatthereticleplanewasverifiedusingthesimulatinglightmodelofa0.75NAlithography.Secondly,ahigh-accuracyscanningslitapparatuswithfourcoplanarbladeswasdeveloped,whichnotonlymeetsthesynchronizationperformancerequirementsofthestep-and-scanlithography,butalsoreducesthepenumbraoftheblade””sedgesintheXandY-

direction.Finally,thedynamicperformanceofthescanningbladesandtheactualpenumbraoftheblade””sedgesatthereticleplanewerealsoexperimentallytested.Thetestresultsindicatethatwhenthescanningspeedreaches470mm/s,thedynamicpositionerrorofthebladeiswithin

±30μmandthepenumbraofalledgesdoesnotexceed0.5mmandmeetstherequirementsofthe90nmstep-and-scanlithography.%扫描狭缝是步进扫描光刻机中掌握曝光剂量的重要单元,而扫描狭缝产生过大的刀口半影

会影响曝光性能.首先,依据步进扫描光刻机照明原理,通过分析掩模面上光强分布与

扫描狭缝刀口厚度及位置的相对关系,推导出掩模面上刀口半影宽度的计算公式,同时针对数值孔径NA为0.75的光刻机照明系统模型分别对非共面和共面扫描狭缝在掩模面上的刀口半影进展仿真分析;研制了一种四刀口共面的高精度扫描狭缝装置,不仅满足步进扫描光刻机的同步性能需求,并且有效减小了X向和Y向的刀口半影;最终对所研制的扫描狭缝动态性能以及掩模面上实际刀口半影进展了测试.结果说明,当最大扫描速度到达470mm/s时,扫描刀口动态跟随误差始终在±30μm以内,同时两个方向的刀口半影均不超过0.5mm,满足90nm区分率步进扫描光刻机的需求.

【期刊名称】《光学周密工程》

【年(卷),期】2023(026)005

【总页数】8页(P1046-1053)

【关键词】光学光刻;步进扫描;扫描狭缝;同步;刀口半影

【作者】林栋梁;张方;黄惠杰

【作者单位】中国科学院上海光学周密机械争论所信息光学与光电技术试验室,上海202300;中国科学院大学,北京100049;中国科学院上海光学周密机械争论所信息光学与光电技术试验室,上海202300;中国科学院上海光学周密机械争论所信息光学与光电技术