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有机化学复习总结

一．有机化合物的命名

能够用系统命名法命名各种类型化合物：

包括烷烃，烯烃，炔烃，烯炔，脂环烃〔单环脂环烃和多环置换脂环烃中的螺环烃和桥环烃〕，芳烃，醇，酚，醚，醛，酮，羧酸，羧酸衍生物〔酰卤，酸酐，酯，酰胺〕，多官能团化合物〔官能团优先挨次：

－COOH＞－SO3H＞－COOR＞－COX＞－CN＞－CHO＞C＝O＞－OH(醇)＞－OH(酚)＞－SH＞－NH2＞－OR＞C

＝C＞－C≡C－＞(－R＞－X＞－NO2)，并能够推断出Z/E构型和R/S构型。

依据化合物的系统命名，写出相应的构造式或立体构造式〔伞形式，锯架式，纽曼投影式，Fischer投影式〕。

立体构造的表示方法：

COOH

CH3

伞形式：H C

OH

HC

锯架式：H

H OH

OH

3

H H

H H H

纽曼投影式：

C2H5

菲舍尔投影式：H

COOH

OH

H H HH HH H

CH3

构象(conformation)

乙烷构象：最稳定构象是穿插式，最不稳定构象是重叠式。

正丁烷构象：最稳定构象是对位穿插式，最不稳定构象是全重叠式。

环己烷构象：最稳定构象是椅式构象。一取代环己烷最稳定构象是e取代的椅式构象。多取代环己烷最稳定构象是e取代最多或大基团处于e键上的椅式构象。

立体构造的标记方法

1.Z/E标记法：在表示烯烃的构型时，假设在次序规章中两个优先的基团在同一侧，为Z构型，在相反侧，为E构型。

CH3 Cl

C C

CH3

C2H5

C C

H C2H5 H Cl

(Z)－3－氯－2－戊烯 (E)－3－氯－2－戊烯

H2、顺/反标记法：在标记烯烃和脂环烃的构型时，假设两个一样的基团在同一侧，则为顺式；在相反侧，则为反式。

H

333CH CH CH HC C 3 3C C

3

3

3

CH CH CH

HH H H CH H

H

33

3

CH H

3

顺－2－丁烯

反－2－丁烯 顺－1,4－二甲基环己烷反－1,4－二甲基环己烷

3、R/S标记法：在标记手性分子时，先把与手性碳相连的四个基团按次序规章排序。然后将最不优先的基团放在远离观看者，再以次观看其它三个基团，假设优先挨次是顺时针，则为R构型，假设是逆时针，则为S构型。

dCca a

d

C

c

d C b

c b

R型 S型

注：将伞状透视式与菲舍尔投影式互换的方法是：先按要求书写其透视式或投影式，然后分别标出其R/S构型，假设两者构型一样，则为同一化合物，否则为其对映体。

二.有机化学反响及特点

反响类型

自由基反响

反响类型 离子型反响

(按历程分)

自由基取代：烷烃卤代、芳烃侧链卤代、烯烃的α－H卤代自由基加成：烯,炔的过氧化效应

亲电加成：烯、炔、二烯烃的加成，脂环烃小环的开环加成亲电取代：芳环上的亲电取代反响

亲核取代：卤代烃、醇的反响，环氧乙烷的开环反响，醚键断裂反响,卤苯的取代反响

亲核加成：炔烃的亲核加成消退反响：卤代烃和醇的反响

协同反响：双烯合成

复原反响〔包括催化加氢〕：烯烃、炔烃、环烷烃、芳烃、卤代烃

氧化反响：烯烃的氧化〔高锰酸钾氧化，臭氧氧化，环氧化〕；炔烃高锰酸钾氧化，臭氧氧化；醇的氧化；芳烃侧链氧化，芳环氧化〕

有关规律

马氏规律：亲电加成反响的规律，亲电试剂总是加到连氢较多的双键碳上。

过氧化效应：自由基加成反响的规律，卤素加到连氢较多的双键碳上。

空间效应：体积较大的基团总是取代到空间位阻较小的位置。

定位规律：芳烃亲电取代反响的规律，有邻、对位定位基，和间位定位基。

查依切夫规律：卤代烃和醇消退反响的规律，主要产物是双键碳上取代基较多的烯烃。

休克尔规章：推断芳香性的规章。存在一个环状的大π键，成环原子必需共平面或接近共平面，π电子数符合4n+2规章。

霍夫曼规章：季铵盐消退反响的规律，只有烃基时，主要产物是双键碳上取代基较少的烯烃〔动力学掌握产物〕。当β－碳上连有吸电子基或不饱和键时，则消退的是酸性较强的氢，生成较稳定的产物〔热力学掌握产物〕。

基团的“挨次规章”

反响中的立体化学烷烃：

烷烃的自由基取代：外消旋化烯烃：

烯烃的亲电加成：

溴，氯，HOBr〔HOCl〕，羟汞化-脱汞复原反响 反式加成

其它亲电试剂：顺式+反式加成

烯烃的环氧化，与单线态卡宾的反响：保持构型烯烃的冷稀KMnO/HO氧化：顺式邻二醇

4 2

烯烃的硼氢化-氧化：顺式加成

烯烃的加氢：顺式加氢

环己烯的加成〔1-取代，3-取代，4-取代〕炔烃：

选择性加氢：

Lindlar催化剂 顺式烯烃

Na/NH〔L〕 反式加氢

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亲核取代：

S1：外消旋化的同时构型翻转