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摘要

摘要

基于参数网格的伪随机轨迹磁流变抛光技术研究

精密制造技术的进步推动了光学系统向离轴面、非球面方向发展，同时对光

学系统的制造精度提出更高要求。高精度的光学元件广泛应用于航空航天、国防

军工、国民经济生产等各个领域，具有极其重要的战略地位，目前我国与发达国

家仍存在较大差距。因此，研究光学元件的超精密抛光技术意义重大。

大多数确定性光学抛光过程中，由于工具头远小于被加工表面的尺寸，被加

工表面除了低频率的面型误差还存在一定的中高频率误差。本文针对小口径光学

元件进行磁流变抛光过程中高频率频率误差抑制问题展开，研制了工具系统并建

立理论去除模型、提出了三维曲面上的伪随机规划方法。研究主要内容概括如下：

1.建立确定性抛光去除理论模型。磁流变抛光主要依靠切应力去除材料，

根据Bingham介质的轴承润滑模型对磁流变抛光区域进行动压力分析获得切应

力分布；定点抛光实验测定抛光参数；最后结合抛光区域的流速分布建立磁流变

抛光的理论去除模型。

2.提出一种基于参数网格的曲面伪随机规划方法。针对曲面的参数化过程，

在基于角