离子束溅射技术在X射线光电子能谱(XPS)深度剖析中的应用.pdfVIP

第15卷第1期中国无机分析化学Vol.15，No.1

2025年1月ChineseJournalofInorganicAnalyticalChemistry56~63

doi:10.20236/j.CJIAC.2025.01.005

周传强，袁干印，龚翔翔，等.离子束溅射技术在X射线光电子能谱（XPS）深度剖析中的应用［J］.中国无机分析化学，2025，15（1）：

56-63.

ZHOUChuanqiang，YUANGanyin，GONGXiangxiang，etal.ApplicationofIonBeamSputteringTechniquesinXPSDepth

Profiling［J］.ChineseJournalofInorganicAnalyticalChemistry，2025，15（1）：5663.

-

离子束溅射技术在X射线光电子能谱（XPS）

深度剖析中的应用

周传强袁干印龚翔翔黄学武

（扬州大学测试中心，江苏扬州225009）

摘要X射线光电子能谱技术是唯一一种既能检测材料表面元素组成又可分析元素价态或化学态的现代

分析测试方法，但它只能探测样品表面1~10个原子层深度。离子束溅射技术能够实现材料表面层的逐层

可控剥离，广泛应用于功能材料的X射线光电子能谱深度剖析。对近年来离子束溅射技术在材料X射线光

电子能谱深度剖析中的应用研究进行综述，分析了当前单原子离子束与气体团簇离子束溅射技术在材料深

度剖析中面临的瓶颈难题，讨论了离子束溅射技术的应用前景和发展趋势。

关键词X射线光电子能谱；表面分析；溅射；深度剖析

要点

1）系统总结了离子束溅射技术在XPS深度剖析中的应用。

2）全面比较了单原子与气体团簇离子束溅射技术的特点及适用范围。

3）深入讨论了离子束溅射技术的发展难题、应用前景和发展趋势。

中图分类号：O657.62TH838文献标志码：A文章编号：2095-1035（2025）01-0056-08

X射线光电子能谱（Xrayphotoelectronspectroscopy，度在10nm以内）的成份信息，而无法探测表面层以

-

简称XPS）技术不仅可检测材料表面元素组成，下深层的化学信息。为了实现表面清洁与深度剖析，

还能提供元素化学态、价态和能带结构的信息，常利用一种离子束溅射技术对材料表面原子层逐渐

［3］

广泛应用于表面物理、表面化学和材料科学领剥离，进而实现不同深度层材料的XPS分析。

［1］

域。XPS是以一定能量的X射线（常用MgKα-近年来，用于XPS深度剖析的离子溅射技术，在

1253.6eV或AlKα-1486.6eV）辐射材料表面，激功能新材料表征和研发、工程技术研究等诸多领域

发原子内层电子摆脱原子核的束缚而以一定的动能中发挥着重要作用。为避免对样品造成化学状态改

发射出来、形成光电子，通过测量光电子的动能，可变或成分受损等不利影响，在进行深度剖析时需要选

推算其结合能；由于电子的结合能与元素的种类和