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磁控溅射法制备硅基薄膜及其电阻转变特性的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代材料科学与电子技术飞速发展的背景下，硅基薄膜因其独特的物理化学性质以及与硅基半导体工艺的兼容性，在众多领域展现出了巨大的应用潜力，成为了研究的热点之一。硅基薄膜作为构建各种电子器件的基础材料，广泛应用于集成电路、传感器、太阳能电池等领域。其性能的优劣直接决定了器件的性能、稳定性和可靠性，进而影响着整个电子产业的发展进程。

磁控溅射法作为一种重要的薄膜制备技术，在硅基薄膜的制备中占据着举足轻重的地位。该方法基于物理气相沉积原理，在真空环境下，利用荷能粒子（如氩离子）轰击靶材表面，使靶材原子或分子获得足够能量