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《热加工工艺》2015年10月第44卷第2O期

●综述●

气相沉积技术制备6．5wt％Si高硅钢的研究进展

秦卓吴隽2，魏海东，姚珏

(1|兰州兰石能源装备工程研究院有限公司，甘肃兰州730050；2．武汉科技大学材料与冶金学院，湖北武汉430081)

摘要：综述了化学气相沉积法(CVD)、物理气相沉积法(PvD)和等离子体化学气相沉积法(PCVD)三类气相沉积

技术制备高硅钢的工艺和路线，并对其前景进行了展望。

关键词：6．5％Si高硅钢；气相沉积技术；制备工艺

DOI：10．14158／j．cnki．1001-3814．2015．20．002

中图分类号：TG174文献标识码：A文章编号：1001-3814(2015)20．0007．04

ResearchDevelopmentofVaporDepositionTechnology

forManufacturing6．5wt％SilIighSiliconSteel

．

QⅡZhuo，WUJun2，WEIHaidong，YAOJue

(1．I和ouLanshiEnergyEquipmentEngineeringInstituteCo．，Ltd．，Lanzhou730050，China；2．SchoolofMaterialand

Metallurgy，WuhanUniversityofScienceandTechnology，Wuhna430081，China)

Abstract：ThevapordepositiontechnologiesofCVD，PVDnadPCVDforproducing6．5wt％Sihighsiliconsteelwere

summarized，theprospectwasalsogiven．

Keywords：6．5％Sihig【hsiliconsteel；vapordepositiontechnoloyg；preparationtechnoloyg

众所周知。随着Si含量的增加。电工钢的电阻沉积法【、快速凝固成形法【、机械合金法[18]等一些

率急剧增大，涡流损耗减小，铁损降低。当Si含量达特殊工艺。1988年，Et本JFE公司利用轧制工艺成

到6．5％(质量分数，下同)时，其最大磁导率达到最大功制备出厚0．1～0．5mill、最大宽度400mm无取向

值，饱和磁致伸缩系数近乎为0，在高频下具有低的6．5％高硅钢，并进行了工业化生产[19]。但对其详细工

涡流损耗和磁滞损耗[】-2]，综合磁性能达到最佳。因艺并没有详尽报道，后续发展应用的报道也很少。除

此。6．5％Si高硅钢是一种综合磁性能极佳的软磁材此之外。各类气相沉积技术也被用来制备高硅钢，如

料，最适合用来制造低损耗、低噪音的高速电机、变化学气相沉积法(CVD)t~0J、物理气相沉积法(PVD)和

压器和磁屏蔽等[31。然而，由于6．5％Si高硅钢在室温等离子体化学气相沉积法(PCVD)等。其中，CVD技

下极易形成有序结构5[]、晶界氧化旧且易发生时效。术在制备6．5％Si高硅钢上是最为成功的．JFE公司

其伸长率仅有0．2％4[]，脆性极高，很难采用传统轧制采用CVD技术率先建立了世界上第一条6．5％Si高

工艺进行生产，其生产和应用受到极大制约。硅钢连续生产线。气相沉积技术经过几十年的发

为解决这一难题，人们通过大量试验和尝试，发展，目