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模拟电子技术基础;
·半导体二极管
·晶体管及其放大电路
·场效应管放大电路
·多级放大电路
●模拟集成电路;
·反馈放大电路
·频率响应分析
●放大电路设计
·特殊器件应用
·电路实例分析;
半导体二极管;
本征半导体与掺杂技术
本征半导体(如硅、锗)通过掺杂微量三价或五价元素形成P型或N型
半导体,显著提升导电性。P型半导体以空穴为多数载流子,N型以自由电子为主。
载流子运动机制
半导体导电性由温度、光照和电场共同影响,热激发产生电子-空穴对,复合过程决定载流子寿命,直接影响器件性能。
能带理论解释
价带与导带间的禁带宽度决定半导体导电性,掺杂可引入施主或受主
能级,缩小有效禁带宽度,增强载流子浓度。;
扩散与漂移平衡
P型与N型半导体接触后,多子扩散形成空间电荷区(耗尽层),内建电场抑制进一步扩散,达到动态平衡状态。;
点接触二极管
金属细针压接半导体形成微小PN结,结电容极低(约1pF),适用于高频检波和开关电路(如1N34A)。
面结型二极管
通过合金或扩散工艺形成较大PN结,允许大电流(安培级),整流效率高(如1N4007),但结电容较大(数十pF)。
肖特基二极管
金属-半导体接触形成势垒,导通压降低(0.3V)、反
向恢复时间短(纳秒级),广泛用于开关电源和高速电路(如BAT54)。;
●齐纳击穿与雪崩击穿
低掺杂稳压管(5V)依赖齐纳效应,高掺杂(7V)以雪崩击穿为主,两者混
合作用区为5-7V。击穿后电流剧增而电压稳定。
●动态电阻特性
稳压管在击穿区的动态电阻(△Vz/△Iz)越小,稳压性能越优,典型值可低至1Ω以下,需配合限流电阻使用。
●温度补偿设计
串联正向二极管或采用特殊工艺(如温度补偿稳压管1N829)可将温度系数降至±0.0005%/℃,用于精密基准源。;
正向导通条件
硅管需正向压降≥0.7V(锗管
0.3V),实际电路需结合外围
电阻计算静态工作点,确保电
流在额定范围内。;
逻辑门电路应用
二极管-电阻逻辑(DTL)实现与/或功能,虽速度慢于TTL,但抗干扰能力强,仍用于某些工业控制场景。;
晶体管及其放大电路;
02工作原理
通过基极电流的微小变化控制集电极电流的大幅变化,实现电流放大。发射结正偏、集电结反偏时,载流子在电场作用下形成放大效应。;
电路构成
以发射极为公共端,输入信号加在基
极-发射极间,输出信号从集电极-发
射极间提取,具有电压和电流双重放
大能力。
旁路电容作用
发射极旁路电容可消除交流负反馈,
提高电路增益;未旁路时电路稳定性
增强但增益下降。;
交流小信号模型
将晶体管线性化为h参数或混合π模型,通过等效电路计算电压增益、输入/输出阻抗等动态参数。
反馈分析
识别电路中的反馈类型(如电压串联负反馈),评估其对增益稳定性、带宽及非线性失真的影响。;
稳定性指标
通过稳定性系数S(=△IC/△ICO)量
化电路抗干扰能力,S越小稳定性越
佳。;
电压增益接近1但小于1,输入阻抗高(数百kΩ)、输出阻
抗低(几十Ω),适用于阻抗变换和信号缓冲。输出信号与输入同相,带负载能力强。
03组合应用
共集-共基组合可兼顾高频响应和稳定性,如用于差分放大
或宽带放大电路;共射-共集组合可优化输入/输出阻抗匹配。;
场效应管放大电路;
3
应用场景
常用于低频小信号放大、阻抗变换电路及模拟开关,因温度稳定性好,在工业控制设备中广泛应用。;
因极间电容小(仅pF级),开关速度快
,广泛应用于高频放大器和数字集成电
路(如CMOS工艺)。;
03漏源击穿电压(BVdss)
限定最大工作电压,功率管可达数百伏,设计时需保留20%余量。;
共源放大电路
电压增益高(Av=-gm*Rd),输入输出反相,需旁路电容稳定源
极电位,频带宽度受米勒效应限制。
共漏电路(源极跟随器)
电压增益≈1,输出阻抗低(1/gm),用于阻抗匹配,相位无偏移。
共栅电路
电流增益高,输入阻抗低(1/gm),适合高频放大,可抑制密勒电容效应。
偏置稳定性分析
采用电流源负载或负反馈技术(如源极电阻Rs)可降低温度漂移
,提高Q点稳定性。;
多级放大电路;
直接耦合
各级间直接连接,可放大直流信号且无低
频截止问题,但存在静态工作点相互影响和零点漂移现象,需设计精密偏置电路补偿温漂。
光电耦合
采用光电器件实现电-光-电转换,彻底隔
离前后级电气连接,适用于高压或噪声敏
感系统,但线性度较差且需额外供电支持发光器件。;
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