半导体基板研磨液.doc

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配方半导体基板研磨液

原料配比

原料

配比(质量份)

中间液体

混合液体

1(体积)

金刚石粉

0.05

混合液体

100(体积)

金属防蚀剂

5(体积)

烷烃类溶剂

3(体积)

中间液体

100(体积)

添加剂

25(体积)

添加剂

丙烯酸聚合物

10

三乙醇胺

25

聚乙烯

7

去离子水

58

制备方法

(1)将去离子水、金属防蚀剂、烷烃类溶剂按照100:5:3的体积比混合,并且搅拌均匀,成为混合液体。

(2)将金刚石粉放入其中,每升混合液加入50克金刚石粉,颗粒大小为50~80nm。用搅拌器以500转/分钟的速度旋转搅拌成为中间液体。

(3)将添加剂加入到中间液体中,用搅

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