化学机械抛光液37.docVIP

化学机械抛光液

原料配比

原料

配比（质量份）

1#

2#

3#

4#

5#

6#

7#

8#

9#

研

磨

颗

粒

SiO2(150nm)

0.5

－

－

－

－

－

－

－

－

SiO2(120nm)

－

15

－

－

－

－

－

－

－

SiO2(80nm)

－

－

3

－

－

－

－

－

－

SiO2(50nm)

－

－

－

1

－

－

－

－

－

SiO2(30nm)

－

－

－

－

5

－

－

－

－

SiO2(20nm)

－

－

－

－

－

10

－

－

－

覆盖SiO2的Al2O3（45nm）

－

－

－

－

－

－

0.1

－

－

带负电的聚苯乙烯（150nm）

－

－

－

－

－

－

－

30

－

SiO2(60nm)

－

－

－

－

－

－

－

－

1

聚

合

物

甲基纤维素（Mw=10000）

1

－

－

－

－

－

－

－

－

乙基纤维素（Mw=50000）

－

0.5

－

－

－

－

－

－

－

羟甲基纤维素（Mw=100000）

－

－

0.1

－

－

－

－

－

－

羟乙基纤维素（Mw=200000）

－

－

－

0.05

－

－

－

－

－

甲基羟乙基纤维素（Mw=300000）

－

－

－

－

0.02

－

－

－

－

乙基羟乙基纤维素（Mw=500000）

－

－

－

－

－

0.005

－

－

－

羟丙基纤维素（Mw=1000000）

－

－

－

－

－

－

0.001

－

－

羧甲基纤维素（Mw=2000000）

－

－

－

－

－

－

－

0.0001

－

乙基纤维素（Mw=100000）

－

－

－

－

－

－

－

－

0.05

稳定剂

聚乙烯吡咯烷酮（Mw=800）

3

－

－

－

－

－

－

－

－

乙烯基吡咯烷酮/醋酸乙烯酯共聚物（Mw=1000）

－

1.5

－

－

－

－

－

－

－

聚乙烯吡咯烷酮（Mw=3000）

－

－

1

－

－

－

－

－

－

乙烯基吡咯烷酮/醋酸乙烯酯共聚物（Mw=10000）

－

－

－

0.8

－

－

－

－

－

聚乙烯吡咯烷酮（Mw=50000）

－

－

－

－

2

－

－

－

－

乙烯基吡咯烷酮/醋酸乙烯酯共聚物（Mw=800）

－

－

－

－

－

0.1

－

－

－

聚乙烯吡咯烷酮（Mw=100000）

－

－

－

－

－

－

0.005

－

－

乙烯基吡咯烷酮/醋酸乙烯酯共聚物（Mw=50000）

－

－

－

－

－

－

－

0.001

－

聚乙烯吡咯烷酮（Mw=10000）

－

－

－

－

－

－

－

－

0.1

成膜剂苯并三氮唑

－

－

－

－

－

－

－

－

0.01

络合剂甘氨酸

－

－

－

－

－

－

－

－

1

氧化剂双氧水

－

－

－

－

－

－

－

－

1

水

余量

余量

余量

余量

余量

余量

余量

余量

余量

制备方法将各组分简单混合均匀，采用氢氧化钾、氨水和硝酸调节至合适的PH值，即可制得抛光液。

原料配伍本品各组分质量份配比范围为：研磨颗粒、聚合物、稳定剂、水余量。

所述研磨颗粒为本领域常规使用的各种研磨颗粒，优选为表面带负电荷的研磨颗粒。

所述的表面带负电荷的研磨颗粒为二氧化硅，表面包裹二氧化硅的研磨颗粒和带负电的高分子研磨颗粒。所述的研磨颗粒的粒径较佳为20～150nm，更佳为30～120nm。

所述的聚合物为纤维素类聚合物，优选为甲基纤维素、乙基纤维素、羟甲基纤维素、羟乙基纤维素、甲基羟乙基纤维素、乙基羟乙基纤维素、羟丙基纤维素、羧甲基纤维素。所述的纤维素的分子量较佳为10000～2000000。更佳为50000～500000。

所述的稳定剂乙烯基吡咯烷酮类聚合物。

所述的乙烯基吡咯烷酮类聚合物为聚乙烯吡咯烷酮和/或乙烯基吡咯烷酮与醋酸乙烯酯的共聚物。所述的聚乙烯吡咯烷酮或乙烯基吡咯烷酮与醋酸乙烯酯的共聚物的分子量较佳为800～100000。更佳为1000～50000。

本品的化学机械抛光液还可含有本领域常用的其他添加剂，如氧化剂、成膜剂、络合剂等以达到抛光目的。

本品中，所述的化学机械抛光液的pH值较佳的为2～7。

产品应用本品主要用作化学机械抛光液。

产品特性本品的抛光液中，研磨颗粒的粒径在40C时也能保持稳定。本品的化学机械抛光液具有较高的稳定性、较长的存储时间和使用寿命。

参考文献中国专利公告CN－200910201378.7