CN118176461A 低强度光掩模和制作在平板显示器光刻中使用的低强度光掩模的系统、方法及程序产品 （美商福昌公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118176461A

(43)申请公布日2024.06.11

(21)申请号202380013974.0(74)专利代理机构北京高沃律师事务所11569

专利代理师万慧华

(22)申请日2023.03.20

(51)Int.Cl.

(30)优先权数据

G03F1/70(2006.01)

63/323,5272022.03.25US

G03F1/36(2006.01)

(85)PCT国际申请进入国家阶段日

G03F7/20(2006.01)

2024.04.10

G06F30/20(2006.01)

(86)PCT国际申请的申请数据G06F30/398(2006.01)

PCT/US2023/0156152023.03.20

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2023/183218EN2023.09.28

(71)申请人美商福昌公司

地址美国康涅狄格州

(72)发明人克里斯托弗·普罗格勒

杨·莫格·汉姆

权利要求书1页说明书11页附图17页

(54)发明名称

低强度光掩模和制作在平板显示器光刻中

使用的低强度光掩模的系统、方法及程序产品

(57)摘要

一种制造光掩模的方法，包括以下步骤：接

收与要在光掩模上形成的一个或更多个图案相

关联的初始光掩模设计数据，以及优化初始光掩

模设计数据以使打印曝光能量最小化，同时保持

可接受的图案质量和尺寸。在实施例中，优化步

骤包括：将打印曝光能量的最小化设置为优先级

设计规则，将图案质量和尺寸的优化设置为次级

设计规则，迭代掩模设计特征的尺寸以确定满足

优先级设计规则和次级设计规则两者的尺寸偏

差范围，从而提供初始优化掩模设计，以及在尺

寸偏差范围内调整掩模变量，以确定进一步优化

A初始优化掩模设计的掩模变量，以获得最终优化

1的掩模设计。

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C

CN118176461A权利要求书1/1页

1.一种制造光掩模的方法，包括：

(A)接收与要在光掩模上形成的一个或更多个图案相关联的初始光掩模设计数据；

(B)优化所述初始光掩模设计数据以使打印曝光能量最小化，同时保持可接受的图案

质量和尺寸，优化步骤包括：

1.将打印曝光能量的最小化设置为优先级设计规则；

2.将图案质量和尺寸的优化设置为次级设计规则；

3.迭代掩模设计特征的尺寸以确定满足所述优先级设计规则和次级设计规则两者的

尺寸偏差范围，从而提供初始优化掩模设计；以及

4.在所述尺寸偏差范围内调整掩模变量，以确定进一步优化所述初始优化掩模设计的

掩模变量，以获得最终优化的掩模设计；

(C)基于所述最终优化的掩模设计生成优化的光掩模设计数据。