CN118204641A 一种基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法 （北京信息科技大学）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118204641A

(43)申请公布日2024.06.18

(21)申请号202410476225.8

(22)申请日2024.04.19

(71)申请人北京信息科技大学

地址100192北京市海淀区清河小营东路

12号

(72)发明人朴林华马炫霖刘珺宇王灯山

(74)专利代理机构北京邦创至诚知识产权代理

事务所(普通合伙)11717

专利代理师张宇锋

(51)Int.Cl.

B23K26/362(2014.01)

B23K26/70(2014.01)

权利要求书1页说明书4页附图1页

(54)发明名称

一种基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀

螺的制作方法

(57)摘要

本发明提供一种基于高速激光雕刻技术的

柔性热流陀螺的制作方法，该方法使用一种新的

工艺流程，新的流程是先用高速激光雕刻机以聚

酰亚胺薄膜为掩膜，雕刻出热流陀螺的电极部分

敏感丝结构，再将这层掩膜贴在相应的聚酰亚胺

基底上，进行溅射。本发明采用高速激光雕刻技

术，这种技术高速激光雕刻技术是一种非接触性

加工技术，它使用激光束直接照射到工件表面，

而无需接触式掩膜或光刻胶等材料。本申请降低

了制造过程中的污染风险和机械损耗，简化了加

工过程，减少了材料和时间成本。

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CN118204641A权利要求书1/1页

1.一种基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，其特征在于，包括如下步

骤：

S1：选取亚克力板整面作为模板层，用激光雕刻机雕刻出陀螺尺寸大小的若干整体镂

空的方形夹具；

S2：将聚酰亚胺薄膜紧密地贴在亚克力板模板层上整体作为第一基底层，使方形夹具

处悬空；

S3：用激光雕刻在第一基底层方形夹具处雕刻出陀螺敏感结构图案，并以方形夹具大

小整体切割作为后续掩膜层；

S4：选取聚酰亚胺薄膜，对其依次用丙酮、无水乙醇、去离子水超声清洗其进行清洗，然

后用氮气将薄膜吹干放进高温烘箱烘烤使其干燥，并进行固定，作为第二基底层；

S5：将掩膜层沾在聚酰亚胺薄膜第二基底层上，然后依次进行Cr、Pt、Au的溅射；

S6：用镊子将掩膜层轻轻剥离，然后用无水乙醇反复清洗，得到聚酰亚胺第二基底层上

的陀螺敏感结构图案；

S7：选取聚酰亚胺薄膜继续贴在第一基底层上整体作为第三基底层；

S8：用激光雕刻在第三基底层方形夹具处雕刻出上盖的腔体，并以方形夹具大小整体

切割作为上盖层；

S9：将上盖层用胶水密封在第二基底层的陀螺敏感结构图案上，形成陀螺结构。

2.根据权利要求1所述的基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，其特征

在于，所述模板层的厚度为0.5‑5mm。

3.根据权利要求1所述的基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，其特征

在于，激光在所述模板层切割的方形夹具边长为1.0‑5cm。

4.根据权利要求1所述的基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，其特征

在于，所述第一基底层的厚度为50‑250um。

5.根据权利要求1所述的基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，其特征

在于，在所述掩膜层上雕刻的螺敏感结构图案的最长边长为0.75‑2.25cm。

6.根据权利要求1所述的基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，其特征

在于，所述第二基底层的厚度为25‑95um，边长为15mm‑45mm。

7.根据权利要求1所述的基于高速激光雕刻技术的柔性热流陀螺的制作方法，其特征

在于，所