光纤修改2讲课文档.pptVIP

光纤修改;光纤修改;2.1光纤与光缆;由纤芯和包层组成的光纤常称为裸光纤，这种光纤如果直接使用，由于裸露在环境中,容易受到外界温度、压力、水气的侵蚀等，因而实际中应用的光纤都在裸光纤的外面增加了防护层,用来缓冲外界的压力,增加光纤的抗拉、抗压强度，并改善光纤的温度特性和防潮性能等。防护层通常也包括好几层，细分为包层外面的缓冲涂层，加强材料涂覆层以及最外一层的套塑层。光纤的套塑方法有两种：;紧套和松套。紧套是指光纤在二次套管内不能自由松动；而松套光纤则有一定的活动范围。紧套的优点是性能稳定，外径较小但机械性能不如松套，因为紧套无松套的缓冲空间，易受外力影响。松套光纤温度性能优于紧套，制作比较容易，但外径较大，为避免水分，需要填充半流质的油膏来提高光缆的纵向封闭性能。现在采用的套方法???发展方向。经过涂覆、套塑形成的光纤常称为被覆光纤或缆芯。

;光纤的主要成分

目前通信用的光纤主要是石英系光纤，其主要成分是高纯度的SiO2玻璃。如果在石英中掺入折射率高于石英的掺杂剂，就可以制作光纤的纤芯。同样，如果在石英中掺入折射率低于石英的掺杂剂，就可以作为包层材料。纤芯中广泛应用的掺杂剂为二氧化锗（GeO2）、五氧化二磷(P2O5)等，包层中主要的掺杂剂为三氧化二硼（B2O3）、氟（F）等。

;光纤的制造工艺简介

光纤是由圆柱形预制棒拉制而成的，因而光纤的生产工艺主要包括怎样制造圆柱形预制棒和拉丝工艺。

1.预制棒的制造方法

预制棒的制造方法主要有管内化学汽相沉积法，如改进的化学汽相沉积法MCVD(ModifiedChemicalVapourDeposition)，等离子体汽相沉积法PCVD(PlasmaChemicalVapourDeposition)和管外化学汽相沉积法。而管外化学汽相沉积法又分为汽相轴向沉积法VAD(VapourPhaseAxialDeposition)和外汽相沉积法OVD(OutsideVapourDeposition)两种。;MCVD是目前使用最广泛的预制棒生产工艺。MCVD法生产光纤预制棒的基本原理是用氧气按特定的次序将SiO2、GeCl4、BCl3送入旋转的高纯硅管中，硅管维持较高的温度，使硅和掺杂元素(Ge、B等)按受控方式产生化学反应。反应的产物均匀沉积在硅管的内壁，随着沉积不断产生，中空的硅管逐渐被封闭。

;为了保证沉积的均匀性，在整个过程中要以一定的速度旋转石英管，并使氢氧焰喷灯以适当的速度沿石英管来回移动，下图给出了其工艺示意图。

;2.拉丝工艺

预制棒拉制成光纤的示意图如图2.3所示，当预制棒由送料机构以一定的速度均匀地送往环状加热炉中加热，且预制棒尖端加热到一定的温度时，棒体尖端的粘度变低，靠自身重量逐渐下垂变细而成纤维，由牵引棍绕到卷筒上。光纤外径和圆的同心度由激光测径仪和同心度测试仪监测，其监测结果控制送棒机构和牵引辊相互配合，以保证光纤的同心度和外径的均匀性。目前，光纤的外径波动可控制在±0.5μm以内，拉丝速度一般为600m/min。

;图2.3光纤制造的拉丝工艺;光缆的技术要求

为了构成实用的传输线路，同时便于工程上安装和敷设，常常将若干根光纤组合成光缆。虽然在拉丝过程中经过涂覆的光纤已具有一定的抗拉强度，但仍经不起弯折、扭曲等侧压力，所以必须把光纤和其他保护元件组合起来构成光缆，使光纤能在各种敷设条件下和各种工程环境中使用，达到实际应用的目的。;光缆的最主要的技术要求是保证在制造成缆、敷设以及在各种使用环境下光纤的传输性能不受影响并具有长期稳定性。其主要性能有：

(1)机械性能：包括抗拉强度、抗压、抗冲击和弯曲性能。

(2)温度特性：包括高温和低温温度特性。

(3)重量和尺寸：每千米重量(kg/km)及外径尺寸。;其中最关键的是机械性能，它是保持光缆在各种敷设条件下都能为缆芯提供足够的抗拉、抗压、抗弯曲等机械强度的关键指标。必须采用加强芯和光缆防护层（简称护层），根据敷设方式的不同，护层要求也不一样：

管道光缆的护层要求具有较高的抗拉、抗侧压、抗