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- 2026-02-05 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN114223067A
(43)申请公布日2022.03.22
(21)申请号202080047443.X(51)Int.CI.
(22)申请日2020.08.13HO1L45/00(2006.01)HO1L27/24(2006.01)
(85)PCT国际申请进入国家阶段日
2021.12.30
(86)PCT国际申请的申请数据
PCT/CN2020/1089582020.08.13
(87)PCT国际申请的公布数据
WO2022/032582ZH2022.02.17
(71)申请人深圳市汇顶科技股份有限公司
地址518045广东省深圳市福田保税区腾
飞工业大厦B座13层
(72)发明人胡泽望姚国峰沈健
(74)专利代理机构北京同立钧成知识产权代理有限公司11205
代理人杨泽刘芳
(54)发明名称
忆阻器及其制作方法、阻变式存储器
(57)摘要
CN114223067A本申请提供一种忆阻器及其制作方法、阻变式存储器。忆阻器包括依次层叠的底电极、阻变层和顶电极,底电极和顶电极中的至少一者在其平面方向上相对阻变层向内凹陷;其中,底电极和顶电极由金属或者金属化合物制成,阻变层由阻变材料制成。本申请提供的忆阻器可减小阻变
CN114223067A
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