CN112020571A 溅射靶的包装物的制作方法及运输方法 （Ｊｘ金属株式会社）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(43)申请公

(10)申请公布号CN112020571A布日2020.12.01

(21)申请号201980014345.3

(22)申请日2019.09.20

(30)优先权数据

2019-0693942019.03.29JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2020.08.20

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2019/0371392019.09.20

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2020/202603JA2020.10.08

(71)申请人JX金属株式会社地址日本东京

(72)发明人荻野真一

(74)专利代理机构北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙)11725

代理人聂宁乐胡瑾

(51)Int.CI.

C23C14/34(2006.01)

B65B31/04(2006.01)

权利要求书1页说明书12页附图1页

(54)发明名称

溅射靶的包装物的制作方法及运输方法

(57)摘要

本发明提供一种即使在含有硼的氧化物的

溅射靶这类的表面容易因水分产生变质的溅射

靶中，也能够有效地抑制表面变质的包装物的制

作方法。溅射靶的包装物的制作方法包括：步骤

1,将溅射靶收纳在由水蒸气穿透度为1g/(m2·

24h)以下的膜形成的第一包装袋中后，对第一包

装袋的开口部进行真空密封；步骤2,在将步骤1

中真空密封的第一包装袋收纳到由水蒸气穿透109

CN112020571A度为1g/(m2·24h)以下的膜形成的第二包装袋中之后，在第二包装袋中封装从空气及惰性气体

CN112020571A

CN112020571A权利要求书1/1页

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1.一种溅射靶的包装物的制作方法，包括：

步骤1,将溅射靶收纳在由水蒸气穿透度为1g/(m2·24h)以下的膜形成的第一包装袋中之后，对第一包装袋的开口部进行真空密封；

步骤2,将通过步骤1被真空密封的第一包装袋收纳在由水蒸气穿透度为1g/(m2·24h)

以下的膜形成的第二包装袋中，之后，在第二包装袋中封装从空气及惰性气体构成的群组中选择的一种或两种以上的缓冲气体，并密封第二包装袋的开口部。

2.如权利要求1所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，被真空密封的第一包装袋内的20℃下的气压为250Pa(abs)以下。

3.如权利要求1或2所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，封装缓冲气体后的第二包装袋内的20℃下的气压为10kPa(abs)以上。

4.如权利要求1或2所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，封装缓冲气体后的第二包装袋内的20℃下的气压为10kPa(abs)以上且为120kPa(abs)以下。

5.如权利要求1～4中任一项所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，缓冲气体的大气压露点在15℃以下。

6.如权利要求1～5中任一项所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，在步骤1中，将溅射靶和干燥剂一起收纳到第一包装袋中。

7.如权利要求6所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，干燥剂包括硅胶。

8.如权利要求6或7所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，相对于每100平方厘米的溅射靶的表面积，收纳1g以上的干燥剂。

9.如权利要求6～8中任一项所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，干燥剂被收纳在一包或两包以上的包装袋中，所述包装袋具有水蒸气穿透性的表面。

10.如权利要求9所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，相对于每100平方厘米的溅射靶的表面积，所述一包或两包以上的包装袋所具有的水蒸气穿透性的表面的总面积为1000mm2以上。

11.如权利要求9或10所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，所述一包或两包以上的包装袋具有防尘性。

12.如权利要求1～11中任一项所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，溅射靶含有硼的氧化物。

13.如权利要求1～12中任一项所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，在实施步骤1之前，还实施通过有机溶剂清洗溅射靶和干洗溅射靶的清洗处理中的一种或两种处理。

14.如权利要求13所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，包括：在实施步骤1之前，在有机溶剂中对溅射靶进行超声波清洗。

15.如权利要求13或14所述的溅射靶的包装物的制作方法，其中，包括：在实施步骤1之前，对溅射靶进行从等离子处理、激光处理及灰化处