CN111845148B 光学防伪元件及其制作方法 （中钞特种防伪科技有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(45)授权

(10)授权公告号CN111845148B公告日2022.04.05

(21)申请号201910336073.0

(22)申请日2019.04.24

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN111845148A

(43)申请公布日2020.10.30

B42D25/415(2014.01)B42D25/30(2014.01)

B42D25/324(2014.01)

B42D25/36(2014.01)

审查员任丛丛

(73)专利权人中钞特种防伪科技有限公司

地址100070北京市丰台区科学城星火路6

号

专利权人中国印钞造币总公司

(72)发明人张巍巍孙凯朱军

(74)专利代理机构北京润平知识产权代理有限公司11283

代理人肖冰滨王晓晓

(51)Int.CI.

B42D25/45(2014.01)权利要求书3页说明书9页附图6页

(54)发明名称

光学防伪元件及其制作方法

(57)摘要

CN111845148B本发明实施例提供一种光学防伪元件及其制作方法，属于光学防伪领域。所述光学防伪元件包括：基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面；以及位于所述基材的所述第一表面上的干涉型反射镀层，所述干涉型反射镀层处于所述光学防伪元件的非镂空区域而不处于镂空区域，所述干涉型反射镀层为法布里-珀罗干涉器结构，所述法布里-珀罗干涉器结构中的吸收层与所述基材接触，且所述吸收层的材料为合金材料。采用合金材料作为吸收层，使得光学防伪元件在保持较高的色彩饱和度的同时，能够成功实现光变膜的全部镂空，解决了现有技术中色

CN111845148B

CN111845148B权利要求书1/3页

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1.一种光学防伪元件，包括：

基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面；以及

位于所述基材的所述第一表面上的干涉型反射镀层，所述干涉型反射镀层处于所述光学防伪元件的非镂空区域而不处于镂空区域，所述干涉型反射镀层为法布里-珀罗干涉器结构，所述法布里-珀罗干涉器结构中的吸收层与所述基材接触，且所述吸收层的材料为合金材料，

其中，所述合金材料为至少两种金属形成的合金材料，形成所述合金材料的一种金属为灰色金属，另一种金属为易被溶液腐蚀的金属，使得在制作所述光学防伪元件时，能够实现沉积在镂空区域处的干涉型反射镀层被完全腐蚀以全部镂空，同时形成的所述光学防伪元件保持较高的色彩饱和度。

2.一种光学防伪元件，包括：

基材，所述基材具有相互对立的第一表面和第二表面；

位于所述基材的所述第一表面上的表面浮雕结构层，所述表面浮雕结构层包括与所述光学防伪元件的镂空区域对齐的第一区域和与所述光学防伪元件的非镂空区域对齐的第二区域，所述第一区域包括第一光栅微结构，所述第二区域包括第二光栅微结构和/或平坦结构，其中，所述第一光栅微结构的深宽比大于所述第二光栅微结构的深宽比，和/或所述第一光栅微结构的比体积大于所述第二光栅微结构的比体积；

同形覆盖于所述第二区域上的干涉型反射镀层，所述干涉型反射镀层处于所述光学防伪元件的非镂空区域而不处于镂空区域，所述干涉型反射镀层为法布里-珀罗干涉器结构，所述法布里-珀罗干涉器结构中的吸收层与所述第二区域接触，且所述吸收层的材料为合金材料，

其中，所述合金材料为至少两种金属形成的合金材料，形成所述合金材料的一种金属为灰色金属，另一种金属为易被溶液腐蚀的金属，使得在制作所述光学防伪元件时，能够实现沉积在镂空区域处的干涉型反射镀层被完全腐蚀以全部镂空，同时形成的所述光学防伪元件保持较高的色彩饱和度。

3.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，

所述灰色金属包括以下一者或多者：铬、镍、铜、钴、钛、钒、钨、锡、硅、锗、或其组合；

所述易被溶液腐蚀的金属包括铝和/或铁。

4.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，

所述合金材料为以下一者或多者：铝/铬合金、铝/镍合金、铝/硅合金、铁/铬、或者铝/铁/铬合金；和/或

所述吸收层的厚度范围是2nm-30nm。

5.根据权利要求1或2所述的光学防伪元件，其中，

所述法布里-珀罗干涉器结构中的介质层的材料为折射率小于1.8的低折射率材料，或者为折射率大于1.8的高折射率材料