CN109686814A 一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法 （上海神舟新能源发展有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN109686814A

(43)申请公布日2019.04.26

(21)申请号201710980151.1

(22)申请日2017.10.19

(71)申请人上海神舟新能源发展有限公司

地址201112上海市闵行区江月路505号

(72)发明人吴伟梁汪建强赵晨

陶智华眭山张忠卫阮忠立

(74)专利代理机构上海科盛知识产权代理有限公司31225

代理人王小荣

(51)Int.CI.

HO1LHO1L

HO1L

31/18(2006.01)

31/0224(2006.01)

31/0236(2006.01)

权利要求书1页说明书6页附图1页

(54)发明名称

清洗/制绒/背抛热氧化掩膜激光开膜丝网印刷硼浆+退火去除BSG正面磷扩散与

清洗/制绒/背抛

热氧化掩膜

激光开膜

丝网印刷硼浆+退火

去除BSG

正面磷扩散与SE制备

去除PSG

背面沉积Al?O?/SiNxH

前表面镀SINx:HARC

丝网印刷银浆

烧结

(57)摘要

109686814ACN本发明涉及一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，该方法包括：将p型硅片通过热氧化进行掩膜、激光消融形成背面图案、丝网印刷硼浆料、高温炉中POCl?沉积PSG、激光掺杂形成选择性发射极，然后在硅片正面沉积SiNx,硅片背面先沉积Al?O3层，再沉积SiNx层，最后丝网印刷烧结正、背面银浆。与现有技术相比，本发明能够实现效率大于22.5%的PERL双面电池技术产业化，不仅提高电池效率，同时因具有双面发电

109686814A

CN

CN109686814A权利要求书1/1页

2

1.一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

1)将p型硅片置于HF/HNO?混合溶液中清洗，去除表面损伤层、切割线痕；

2)将清洗后的硅片置于碱性溶液中进行制绒，之后进行背面抛光；

3)将背面抛光后的硅片进行氧化，使SiO?的厚度为10-15nm;

4)将硅片背面进行纳秒激光开膜；

5)在硅片背面进行丝网局域印刷硼浆料，之后在800-1200℃下退火；

6)利用POCl?在硅片正面沉积PSG,并采用皮秒激光掺杂形成选择性发射极；

7)在硅片正面先沉积一层高折射率SiN膜，之后再沉积一层低折射率SiN膜；

8)在硅片背面先沉积一层Al?O?,再沉积一层SiNx,或直接在硅片背面沉积一层Si0x,之后在400-450℃下退火；

9)在硅片正面进行丝网印刷银浆料，在硅片背面印刷银铝浆料，烧结后即可。

2.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤1)中，所述的HF/HNO?混合溶液中，HF与HNO?体积比为1:1-5。

3.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤2)中，所述的碱性溶液为KOH溶液或NaOH溶液。

4.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤2)中，所述的背面抛光过程在HF/HNO?混合溶液中进行。

5.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤3)中，所述的氧化为高温热氧化，该高温热氧化的温度为650-870℃。

6.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤5)中，所述的退火过程在氮气或氧气中进行。

7.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤7)中，所述的高折射率SiN膜的厚度为9-11nm,折射率为2.5-2.9;所述的低折射率SiNx膜的厚度为60-80nm,折射率为2-2.1。

8.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤8)中，硅片背面的Al?O?层的厚度为5-20nm,SiN层的厚度为70-100nm,Si0x层的厚度为70-100nm。

9.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤9)中，所述的烧结温度为850-910℃。

10.根据权利要求1所述的一种背钝化高效p型PERL双面电池的制作方法，其特征在于，步骤2)中，所述的背面抛光过程在单抛机中进行；步骤3)中，所述