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- 2026-02-11 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN109494264A
(43)申请公布日2019.03.19
(21)申请号201811604843.7HO1L31/18(2006.01)
(22)申请日2018.12.26
(71)申请人苏州腾晖光伏技术有限公司
地址215500江苏省苏州市常熟沙家浜常
昆工业园腾晖路1号申请人南京航空航天大学
(72)发明人张树德魏青竹倪志春钱洪强连维飞胡党平王泽辉
(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227
代理人罗满
(51)Int.CI.
HO1LH01LH01L
31/0224(2006.01)
31/0216(2014.01)
31/0352(2006.01)
权利要求书1页
说明书7页附图3页
(54)发明名称
一种晶硅太阳能电池及其制作方法
(57)摘要
CN109494264A本发明公开了一种晶硅太阳能电池,包括P型基体;所述P型基体的迎光面向外依次包括N型半导体层及正面电极;所述P型基体的背光面向外依次包括介质层及背面电极;所述介质层为带高固定正电荷的介质层;所述介质层在所述P型基体与所述介质层接触的表面感应形成N型反型层;所述介质层具有与所述背面电极相配合的图案,使所述背面电极可直接与所述P型基体接触。本发明在P型基体的背光面表面附近形成浮动结,抑制了背光面的表面复合,增大了晶硅太阳能电池的光电转换效率,同时,上述介质层可由简单的沉积工艺设置,相较于现有技术中的氧化铝,成本低廉,工艺简单。本发明还同时提供了一
CN109494264A
CN109494264A权利要求书1/1页
2
1.一种晶硅太阳能电池,其特征在于,包括P型基体;
所述P型基体的迎光面向外依次包括N型半导体层及正面电极;
所述P型基体的背光面向外依次包括介质层及背面电极;
所述介质层为带高固定正电荷的介质层;
所述介质层在所述P型基体与所述介质层接触的表面感应形成N型反型层;
所述介质层具有与所述背面电极相配合的图案,使所述背面电极可直接与所述P型基体接触。
2.如权利要求1所述的晶硅太阳能电池,其特征在于,所述晶硅太阳能电池还包括绝缘层;
所述绝缘层设置于所述背面电极与所述N型反型层之间,用于防止所述背面电极与所述N型反型层之间出现电导通。
3.如权利要求2所述的晶硅太阳能电池,其特征在于,所述晶硅太阳能电池还包括保护层;
所述保护层设置于所述绝缘层及所述介质层表面,用于保护所述绝缘层及所述介质层免受机械划伤及物理化学腐蚀。
4.如权利要求1至3任一项所述的晶硅太阳能电池,其特征在于,所述硅太阳能电池还包括P+型层;
所述P+型层设置于所述背面电极与所述P型基体之间;
所述P+型层的掺杂浓度大于所述P型基体的掺杂浓度。
5.如权利要求1所述的晶硅太阳能电池,其特征在于,所述背面电极为金属铝电极。
6.如权利要求1所述的晶硅太阳能电池,其特征在于,所述晶硅太阳能电池还包括钝化层;
所述钝化层设置于所述N型半导体层及所述正面电极之间。
7.如权利要求6所述的晶硅太阳能电池,其特征在于,所述晶硅太阳能电池还包括减反层;
所述减反层设置于所述钝化层与所述正面电极之间,用于增加进入所述钝化层中的光通量。
8.如权利要求7所述的晶硅太阳能电池,其特征在于,所述减反层与所述钝化层为氮化硅。
9.一种晶硅太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括:
提供P型基体;
在所述P型基体的迎光面设置N型半导体层;
在所述P型基体的背光面设置介质层,所述介质层为带高固定正电荷的介质层;
在所述N型半导体层表面设置正面电极,并在所述介质层表面按照预设图案设置背面电极,使所述背面电极能与所述P型基体接触,得到所述晶硅太阳能电池。
10.如权利要求9所述的晶硅太阳能电池的制作方法,其特征在于,所述在所述介质层表面按照预设图案设置背面电极具体包括:
在所述介质层表面按照预设图案印刷铝浆;
将印刷过铝浆的P型基体过烧结,完成金属化,得到所述背面电极。
CN109494264A说明书
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