CN107452762A 一种图像传感器感光结构及其制作方法 （上海集成电路研发中心有限公司）.docxVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN107452762A

(43)申请公布日2017.12.08

(21)申请号201710722434.6

(22)申请日2017.08.22

(71)申请人上海集成电路研发中心有限公司地址201210上海市浦东新区上海浦东张

江高斯路497号

申请人成都微光集电科技有限公司

(72)发明人白丽莎张悦强叶红波王勇

(74)专利代理机构上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275

代理人吴世华陈慧弘

(51)Int.CI.

HO1L27/146(2006.01)

权利要求书1页说明书4页附图1页

(54)发明名称

一种图像传感器感光结构及其制作方法

(57)摘要

CN107452762A本发明公开了一种图像传感器感光结构及其制作方法，其特征在于，所述感光结构包括镀膜单元、微型透镜以及感光元件，所述感光元件位于所述微型透镜的正下方，用于接收透过微型透镜的入射光，所述微型透镜的上方覆盖镀膜单元，所述镀膜单元包括至少一种镀膜层；其中，入射光依次经过镀膜单元和微型透镜进入所述感光元件中。本发明提供的一种图像传感器感光结构在微型透镜上沉积镀膜单元，可以增加微型透镜的透射率，增加图像传感器的灵敏度；可以减少微型透镜表面的散射，消除光的散射对相邻像素的影响；可以不借助彩色滤光片和镜头镀膜，

CN107452762A

CN107452762A权利要求书1/1页

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1.一种图像传感器感光结构，其特征在于，包括镀膜单元、微型透镜以及感光元件，所述感光元件位于所述微型透镜的正下方，用于接收透过微型透镜的入射光，所述微型透镜的上方覆盖镀膜单元，所述镀膜单元包括至少一种镀膜层；其中，入射光依次经过镀膜单元和微型透镜进入所述感光元件中。

2.根据权利要求1所述的一种图像传感器感光结构，其特征在于，还包括彩色滤光片，所述彩色滤光片位于微型透镜和感光元件之间。

3.根据权利要求1所述的一种图像传感器感光结构，其特征在于，所述镀膜单元为波长截止镀膜单元或增透镀膜单元。

4.根据权利要求3所述的一种图像传感器感光结构，其特征在于，所述波长截止镀膜单元为红外截止镀膜单元或紫外截止镀膜单元或可见光波长截止镀膜单元。

5.根据权利要求4所述的一种图像传感器感光结构，其特征在于，所述红外截止镀膜单元由高折射率镀膜层和低折射率镀膜层交替堆叠而成。

6.根据权利要求5所述的一种图像传感器感光结构，其特征在于，所述高折射率镀膜层的材料选自二氧化钛、五氧化三钛、二氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌或H4混合物中的一种或几种。

7.根据权利要求5所述的一种图像传感器感光结构，其特征在于，所述低折射率镀膜层的材料选自二氧化硅或二氟化镁中的一种或两种。

8.一种制作权利要求1所述的图像传感器感光结构的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S01:制作位于感光元件上方的透镜基片；

S02:在上述透镜基片上沉积介质层，通过图形化和热熔得到位于透镜基片上的微型透镜；

SO3:在上述微型透镜上沉积镀膜单元。

9.根据权利要求8所述一种图像传感器感光结构的制作方法，其特征在于，步骤S02中介质层为树脂材料层，得到位于透镜基片上的微型透镜的方法具体为：

S0201:在透镜基片上旋涂树脂材料层，

S0202:在树脂材料层上溅射金属层；

S0203:在上述金属层上旋涂光刻胶；

S0204:曝光显影之后得到预设的图形；

S0205:腐蚀裸露出来的金属层，并刻蚀掉光刻胶和裸露出来的树脂材料层；

S0206:腐蚀剩余的金属层，并热熔树脂材料层，得到微型透镜。

10.一种由权利要求1所述的感光结构组成的图像传感器的感光系统，其特征在于，包括镀膜单元、微型透镜阵列以及感光元件阵列，所述微型透镜阵列由微型透镜排列组成，所述感光元件阵列由感光元件排列组成，并且感光元件与微型透镜一一对应，所述微型透镜阵列的上方覆盖镀膜单元，所述镀膜单元包括至少一种镀膜层；其中，入射光依次经过镀膜单元、微型透镜阵列进入所述感光元件阵列中，每个微型透镜及其对应的感光元件生成一个像素。

CN107452762A说明书