GBT 44937（2）-2025辐射发射测量标准学习与解读.pptxVIP

GB/T44937(2)-2025辐射发射测量标准学习与解读

目录

02

辐射发射测量基础

01

标准概述

03

TEM小室法详解

04

宽带TEM小室法详解

05

测量实施指南

06

标准解读与行业应用

标准概述

01

标准背景与制定目的

产业规范化发展

针对国内半导体行业缺乏统一辐射发射测量方法的现状，为芯片设计、封装测试提供标准化技术依据，提升产品国际竞争力。

国际标准接轨

等同采用IEC61967-2:2005国际标准，实现我国集成电路电磁兼容测试体系与国际先进水平同步，消除技术贸易壁垒。

技术迭代需求

随着集成电路工作频率提升和封装密度增加，传统电磁发射测量方法已无法满足高精度测试需求，本标准填补了高频段（150kHz-1GHz）辐射发射测量的技术空白。

适用对象界定

TEM小室技术规范

明确适用于各类集成电路芯片及模组的辐射发射特性测量，特别规定了对无线通信芯片、高速数字IC等高频器件的测试要求。

详细定义横向电磁波传输室（TEMCell）的结构参数、特性阻抗（50Ω）及工作频率范围（150kHz-1GHz），确保测试环境一致性。

适用范围与核心定义

宽带TEM小室要求

补充规定宽带TEM小室的驻波比（VSWR1.5）、场均匀性（±3dB）等关键指标，满足高频段测量需求。

辐射发射量化指标

明确定义测量参数包括电场强度（dBμV/m）、功率谱密度（dBm/Hz）等