CN119772789A 一种半导体抛光的反馈控制方法及系统 （磊菱半导体设备(江苏)有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119772789A

(43)申请公布日2025.04.08

(21)申请号202411658224.1

(22)申请日2024.11.20

(71)申请人磊菱半导体设备（江苏）有限公司

地址226000江苏省南通市启东经济开发

区凯旋路399号

(72)发明人刘尚书汪民黄伟施建华

(74)专利代理机构南通鼎点知识产权代理事务所(普通合伙)32442

专利代理师杨政飞

(51)Int.Cl.

B24B51/00(2006.01)

B24B49/00(2012.01)

B24B29/02(2006.01)

B24B1/00(2006.01)

权利要求书2页说明书12页附图2页

(54)发明名称

一种半导体抛光的反馈控制方法及系统

(57)摘要

CN119772789A本申请提供了一种半导体抛光的反馈控制方法及系统，涉及半导体抛光加工技术领域，该方法包括：构建智能反馈器，包括点阵演化单元、反馈决策单元与模糊分析单元；结合点阵演化单元确定目标校验点阵；基于协同控制方案进行抛光控制，同步执行基于目标校验点阵的传感监测，确定监测反馈数据；对监测反馈数据进行指标矩阵组的提取与模糊反馈决策，确定反馈控制策略；接收主观反馈指令，结合反馈控制策略执行反馈抛光