PCB设备专题报告_mSAP工艺应用场景拓展_设备股迎成长新机遇_17页_1mb.pptxVIP

  • 0
  • 0
  • 约小于1千字
  • 约 17页
  • 2026-07-01 发布于辽宁
  • 举报

PCB设备专题报告_mSAP工艺应用场景拓展_设备股迎成长新机遇_17页_1mb.pptx

;投资要点;目录;1.1受益于AIPCB硬件升级,mSAP工艺关注度提高;1.1受益于AIPCB硬件升级,mSAP工艺关注度提高;1.2PCB升级,从Tenting法到mSAP法再到SAP法;1.2PCB升级,从Tenting法到mSAP法再到SAP法;mSAP工艺对设备提出了更高的要求。

??曝光设备:线宽线距降低至15μm,LDI设备需实现±0.5μm的成像精度和±1.5μm的对位精度, 确保细线路图形的精准呈现,芯碁微装LDI设备已经实现15μm线宽线距能力;另外洪镭光学也有 对应设备布局(洪田股份子公司)。

②钻孔设备:孔径缩小至50μm左右,相比于CO2激光钻,超快激光钻

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档