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干式摩擦化学机械抛光FTO玻璃基片特性研究.pdf

干式摩擦化学机械抛光FTO玻璃基片特性研究.pdf

    摘要

    随着光电技术的快速发展，FTO（氟掺杂氧化锡）玻璃作为透明导电氧化物

    （TCO）玻璃的重要类型，凭借其高导电性、高透光率及优异的化学稳定性，成为液

    晶显示器、薄膜太阳能电池、气敏传感器等领域的核心材料。然而，其基材以钠钙玻

    璃为主体，属于典型硬脆材料，加工过程中易因机械应力引发表面/亚表面损伤，传统

    机械抛光技术难以实现纳米级表面质量，且加工效率低下。尽管传统化学机械抛光

    （CMP）技术通过化学软化与机械去除的协同作用可改善FTO玻璃基材表面均匀性

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